Idioma: Inglés
Publicado por Van Nostrand Reinhold, (1983)., New York, NY, U.S.A., 1983
ISBN 10: 0442225385 ISBN 13: 9780442225384
Librería: Pride and Prejudice-Books, Ballston Lake, NY, Estados Unidos de America
EUR 10,65
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Añadir al carritoHardcover. Condición: Near Fine. Estado de la sobrecubierta: Near Fine. First Edition. Near Fine in Near Fine Dust Jacket.
Librería: HPB-Movies, Dallas, TX, Estados Unidos de America
EUR 13,08
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Añadir al carritohardcover. Condición: Very Good. Connecting readers with great books since 1972! Used books may not include companion materials, and may have some shelf wear or limited writing. We ship orders daily and Customer Service is our top priority!
Librería: HPB-Red, Dallas, TX, Estados Unidos de America
EUR 19,17
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Añadir al carritohardcover. Condición: Good. Connecting readers with great books since 1972! Used textbooks may not include companion materials such as access codes, etc. May have some wear or writing/highlighting. We ship orders daily and Customer Service is our top priority!
Idioma: Inglés
Publicado por Van Nost.Reinhold,U.S., 1983
ISBN 10: 0442225385 ISBN 13: 9780442225384
Librería: Ammareal, Morangis, Francia
EUR 5,84
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Añadir al carritoHardcover. Condición: Très bon. Ancien livre de bibliothèque. Livre un peu vrillé. Légères traces d'usure sur la couverture. Salissures sur la tranche. Edition 1983. Ammareal reverse jusqu'à 15% du prix net de cet article à des organisations caritatives. ENGLISH DESCRIPTION Book Condition: Used, Very good. Former library book. Book slightly twisted. Slight signs of wear on the cover. Stains on the edge. Edition 1983. Ammareal gives back up to 15% of this item's net price to charity organizations.
Librería: SatelliteBooks, Burlington, VT, Estados Unidos de America
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Librería: My Dead Aunt's Books, Hyattsville, MD, Estados Unidos de America
EUR 31,05
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Añadir al carritoHardcover. Condición: LIKE NEW. Estado de la sobrecubierta: NONE. excellent clean copy.
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
EUR 112,27
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Librería: California Books, Miami, FL, Estados Unidos de America
EUR 117,12
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Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
EUR 114,65
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Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
EUR 114,64
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Librería: Chiron Media, Wallingford, Reino Unido
EUR 113,57
Cantidad disponible: 10 disponibles
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Librería: Books Puddle, New York, NY, Estados Unidos de America
EUR 147,29
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Añadir al carritoCondición: New. pp. 962.
Librería: Mispah books, Redhill, SURRE, Reino Unido
EUR 131,17
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Librería: preigu, Osnabrück, Alemania
EUR 95,70
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Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. Handbook of Advanced Semiconductor Technology and Computer Systems | Guy Rabbat | Taschenbuch | Van Nostrand Reinhold Electrical/Computer Science and Engineering Series | xviii | Englisch | 2012 | Springer | EAN 9789401170581 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter: preigu.
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
EUR 163,11
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Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
EUR 163,14
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Añadir al carritoPaperback. Condición: Brand New. reprint edition. 962 pages. 9.25x6.10x2.10 inches. In Stock.
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
EUR 164,94
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Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
EUR 181,76
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Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
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Librería: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Alemania
EUR 116,27
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Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Chapter I describes deposition as a basic microelectronics technique. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a technique widely accepted in microelectronics for the deposition of amorphous dielectric films such as silicon nitride and silicon oxide. The main advantage of PECVD stems from the intro duction of plasma energy to the CVD environment, which makes it possible to promote chemical reactions at relatively low temperatures. A natural extension of this is to use this plasma energy to lower the temperature required to obtain a crystalline deposit. This chapter discusses the PECVD technique and its ap plication to the deposition of dielectric, semiconductor, and conductor films of interest to microelectronics. Chapter 2 acquaints the reader with the technology and capabilities of plasma processing. Batch etching reactors and etching processes are approaching ma turity after more than ten years of development. Requirements of anisotropic and selective etching have been met using a variety of reactor configurations and etching gases. The present emphasis is the integration of plasma etching processes into the overall fabrication sequence. Chapter 3 reviews recent advances in high pressure oxidation technology and its applications to integrated circuits. The high pressure oxidation system, oxi dation mechanisms, oxidation-induced stacking faults, impurity segregation, and oxide quality are described. Applications to bipolar and MOS devices are also presented.
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
EUR 196,74
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Librería: Mispah books, Redhill, SURRE, Reino Unido
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Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
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Añadir al carritoGebunden. Condición: New. A growing concern of mine has been the unrealistic expectations for new computer-related technologies introduced into all kinds of organizations. Unrealistic expectations lead to disappointment, and a schizophrenic approach to the introduction of new techno.
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
EUR 238,48
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Librería: Mispah books, Redhill, SURRE, Reino Unido
EUR 228,95
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Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
EUR 262,42
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Añadir al carritoCondición: As New. Unread book in perfect condition.
Librería: Mispah books, Redhill, SURRE, Reino Unido
EUR 258,76
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Librería: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italia
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Añadir al carritoCondición: new. Questo è un articolo print on demand.
Idioma: Inglés
Publicado por Springer Netherlands Jun 2012, 2012
ISBN 10: 9401170584 ISBN 13: 9789401170581
Librería: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, Alemania
EUR 85,55
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Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Chapter I describes deposition as a basic microelectronics technique. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a technique widely accepted in microelectronics for the deposition of amorphous dielectric films such as silicon nitride and silicon oxide. The main advantage of PECVD stems from the intro duction of plasma energy to the CVD environment, which makes it possible to promote chemical reactions at relatively low temperatures. A natural extension of this is to use this plasma energy to lower the temperature required to obtain a crystalline deposit. This chapter discusses the PECVD technique and its ap plication to the deposition of dielectric, semiconductor, and conductor films of interest to microelectronics. Chapter 2 acquaints the reader with the technology and capabilities of plasma processing. Batch etching reactors and etching processes are approaching ma turity after more than ten years of development. Requirements of anisotropic and selective etching have been met using a variety of reactor configurations and etching gases. The present emphasis is the integration of plasma etching processes into the overall fabrication sequence. Chapter 3 reviews recent advances in high pressure oxidation technology and its applications to integrated circuits. The high pressure oxidation system, oxi dation mechanisms, oxidation-induced stacking faults, impurity segregation, and oxide quality are described. Applications to bipolar and MOS devices are also presented. 960 pp. Englisch.