Handbook of Advanced Semiconductor Technology and Computer Systems

Idioma: inglés

Editorial: Springer Netherlands Jun 2012, 2012

9401170584 / 9789401170581

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This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Chapter I describes deposition as a basic microelectronics technique. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a technique widely accepted in microelectronics for the deposition of amorphous dielectric films such as silicon nitride and silicon oxide. The main advantage of PECVD stems from the intro duction of plasma energy to the CVD environment, which makes it possible to promote chemical reactions at relatively low temperatures. A natural extension of this is to use this plasma energy to lower the temperature required to obtain a crystalline deposit. This chapter discusses the PECVD technique and its ap plication to the deposition of dielectric, semiconductor, and conductor films of interest to microelectronics. Chapter 2 acquaints the reader with the technology and capabilities of plasma processing. Batch etching reactors and etching processes are approaching ma turity after more than ten years of development. Requirements of anisotropic and selective etching have been met using a variety of reactor configurations and etching gases. The present emphasis is the integration of plasma etching processes into the overall fabrication sequence. Chapter 3 reviews recent advances in high pressure oxidation technology and its applications to integrated circuits. The high pressure oxidation system, oxi dation mechanisms, oxidation-induced stacking faults, impurity segregation, and oxide quality are described. Applications to bipolar and MOS devices are also presented. 960 pp. Englisch.

N° de ref. del artículo 9789401170581

Título
Handbook of Advanced Semiconductor Technology and Computer Systems
Autor
Guy Rabbat
Editorial
Springer Netherlands Jun 2012
Año de publicación
2012
Estado
Neu
Encuadernación
Taschenbuch
Idioma
inglés
ISBN 10
9401170584
ISBN 13
9789401170581
Peso del artículo
1422 gramos
Dimensiones
235x155x51 mm

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