9783838333885 - hafnium oxide and hafnium silicate for high-k application: characterization of hafnium based oxide thin films deposited by cvd: characterization of ... for high-k application in transistors de bhandari, harish (9 resultados)
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Taschenbuch. Condición: Neu. Hafnium Oxide And Hafnium Silicate For High-k Application | Characterization of Hafnium Based Oxide Thin Films Deposited by CVD & Plasma-CVD For High-k Application in Transistors | Harish Bhandari | Taschenbuch | 232 S. | Englisch | 2010 | LAP LAMBERT Academic Publishing | EAN 9783838333885 | Verantw…ortliche Person für die EU: BoD - Books on Demand, In de Tarpen 42, 22848 Norderstedt, info[at]bod[dot]de | Anbieter: preigu.
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Paperback. Condición: Brand New. 232 pages. 8.58x5.91x0.63 inches. In Stock.
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Taschenbuch. Condición: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Novel materials with high-dielectric(k) constants are rapidly gaining attention for their application as gate insulator for future MOS transistors. This book provides the basic principles underlying chemical vapor deposition (CVD) o…f hafnium oxide and hafnium silicate thin films for high-k application. In addition to the deposition fundamentals, the discussions in the book provide valuable insights to various chemical and physical characterization techniques that can be applied to thin films in general. This easy-to-understand and well- illustrated text is designed for both beginners as well as advanced researchers with a good introduction to the subject of high-k thin films. 232 pp. Englisch.
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Condición: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Autor/Autorin: Bhandari HarishHarish Bhandari received the Bachelors in Chemical Engineering (2000) from Bangalore University, India. He earned his M.S. and Ph.D. (2006) in Chemical Engineering at the University of Al…abama. He is currently a Res.
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Taschenbuch. Condición: Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - Novel materials with high-dielectric(k) constants are rapidly gaining attention for their application as gate insulator for future MOS transistors. This book provides the basic principles underlying chemical vapor deposition (CVD) of haf…nium oxide and hafnium silicate thin films for high-k application. In addition to the deposition fundamentals, the discussions in the book provide valuable insights to various chemical and physical characterization techniques that can be applied to thin films in general. This easy-to-understand and well- illustrated text is designed for both beginners as well as advanced researchers with a good introduction to the subject of high-k thin films.
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Taschenbuch. Condición: Neu. This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -Novel materials with high-dielectric(k) constants are rapidly gaining attention for their application as gate insulator for future MOS transistors. This book provides the basic principles underlying chemical vapor deposition (CVD) of ha…fnium oxide and hafnium silicate thin films for high-k application. In addition to the deposition fundamentals, the discussions in the book provide valuable insights to various chemical and physical characterization techniques that can be applied to thin films in general. This easy-to-understand and well- illustrated text is designed for both beginners as well as advanced researchers with a good introduction to the subject of high-k thin films.VDM Verlag, Dudweiler Landstraße 99, 66123 Saarbrücken 232 pp. Englisch.
