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9781107413153 - Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and LowK Dielectrics: Volume 612 (MRS Proceedings) de Oehrlein, G. S. (15 resultados)
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-k Dielectrics
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 37,96
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-K Dielectrics: Volume 612 (Paperback or Softback)
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press 6/5/2014, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: BargainBookStores, Grand Rapids, MI, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 40,31
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Añadir al carritoPaperback or Softback. Condición: New. Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-K Dielectrics: Volume 612. Book.
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-K Dielectrics: Volume 612 (MRS Proceedings)
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: California Books, Miami, FL, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-k Dielectrics
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-K Dielectrics: Volume 612 (MRS Proceedings)
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 38,08
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and LowK Dielectrics: Volume 612 (MRS Proceedings)
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press 2014-06-05, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: Chiron Media, Wallingford, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 34,78
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Se envía de Reino Unido a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 10 disponibles
Añadir al carritoPaperback. Condición: New.
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-k Dielectrics
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 37,73
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and LowK Dielectrics: Volume 612 (MRS Proceedings)
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: Kennys Bookshop and Art Galleries Ltd., Galway, GY, Irlanda
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 47,01
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-k Dielectrics
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and LowK Dielectrics: Volume 612 (MRS Proceedings)
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: Kennys Bookstore, Olney, MD, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 58,58
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-K Dielectrics : Volume 612
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
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Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book highlights important achievements and challenges in advanced interconnects and low-k dielectrics as employed in the microelectronics industry. The replacement of Al alloys with Cu along with the introduction of new barrier materials to protect Cu from chemical attack, and the utilization of new dielectric materials with a lower relative dielectric constant k than SiO2 in multilevel metallization structures of increasing complexity, are the major themes of evolution in this field. Invited reviews illustrate the significant progress that has been achieved as well as the challenges that remain. Contributed papers presented by researchers from different countries demonstrate progress on current topics using a truly multidisciplinary approach.
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-K Dielectrics: Volume 612
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
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Añadir al carritoPaperback. Condición: Brand New. 1st edition. 614 pages. 9.02x5.98x1.22 inches. In Stock. This item is printed on demand.
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-K Dielectrics: Volume 612
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: THE SAINT BOOKSTORE, Southport, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-K Dielectrics: Volume 612 (Paperback)
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, Cambridge, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: CitiRetail, Stevenage, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 44,68
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Añadir al carritoPaperback. Condición: new. Paperback. This book highlights important achievements and challenges in advanced interconnects and low-k dielectrics as employed in the microelectronics industry. The replacement of Al alloys with Cu along with the introduction of new barrier materials to protect Cu from chemical attack, and the utilization of new dielectric materials with a lower relative dielectric constant k than SiO2 in multilevel metallization structures of increasing complexity, are the major themes of evolution in this field. Invited reviews illustrate the significant progress that has been achieved as well as the challenges that remain. Contributed papers presented by researchers from different countries demonstrate progress on current topics using a truly multidisciplinary approach. The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners. This item is printed on demand. Shipping may be from our UK warehouse or from our Australian or US warehouses, depending on stock availability.
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-K Dielectrics
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2013
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Librería: moluna, Greven, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
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