The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners.
"Sinopsis" puede pertenecer a otra edición de este libro.
This book highlights important achievements and challenges in advanced interconnects and low-k dielectrics as employed in the microelectronics industry. The replacement of Al alloys with Cu along with the introduction of new barrier materials to protect Cu from chemical attack, and the utilization of new dielectric materials with a lower relative dielectric constant k than SiO2 in multilevel metallization structures of increasing complexity, are the major themes of evolution in this field. Invited reviews illustrate the significant progress that has been achieved as well as the challenges that remain. Contributed papers presented by researchers from different countries demonstrate progress on current topics using a truly multidisciplinary approach.
"Sobre este título" puede pertenecer a otra edición de este libro.
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
Condición: New. Nº de ref. del artículo: 20974142-n
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Librería: California Books, Miami, FL, Estados Unidos de America
Condición: New. Nº de ref. del artículo: I-9781107413153
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
Condición: As New. Unread book in perfect condition. Nº de ref. del artículo: 20974142
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
Condición: New. In. Nº de ref. del artículo: ria9781107413153_new
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Librería: Kennys Bookshop and Art Galleries Ltd., Galway, GY, Irlanda
Condición: New. Nº de ref. del artículo: V9781107413153
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
Condición: New. Nº de ref. del artículo: 20974142-n
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Librería: Kennys Bookstore, Olney, MD, Estados Unidos de America
Condición: New. Nº de ref. del artículo: V9781107413153
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
Condición: As New. Unread book in perfect condition. Nº de ref. del artículo: 20974142
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Librería: THE SAINT BOOKSTORE, Southport, Reino Unido
Paperback / softback. Condición: New. This item is printed on demand. New copy - Usually dispatched within 5-9 working days. Nº de ref. del artículo: C9781107413153
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Librería: CitiRetail, Stevenage, Reino Unido
Paperback. Condición: new. Paperback. This book highlights important achievements and challenges in advanced interconnects and low-k dielectrics as employed in the microelectronics industry. The replacement of Al alloys with Cu along with the introduction of new barrier materials to protect Cu from chemical attack, and the utilization of new dielectric materials with a lower relative dielectric constant k than SiO2 in multilevel metallization structures of increasing complexity, are the major themes of evolution in this field. Invited reviews illustrate the significant progress that has been achieved as well as the challenges that remain. Contributed papers presented by researchers from different countries demonstrate progress on current topics using a truly multidisciplinary approach. The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners. This item is printed on demand. Shipping may be from our UK warehouse or from our Australian or US warehouses, depending on stock availability. Nº de ref. del artículo: 9781107413153
Cantidad disponible: 1 disponibles