ISBN: 9780750309936 - strained-si heterostructure field effect devices (series in materials science and engineering) (13 resultados)
Idioma: Inglés
Editorial: CRC Press, 2007
Serie: Libro 3 de 21 - Series in Materials Science and Engineering
- Tapa dura
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Idioma: Inglés
Editorial: CRC Press, 2007
Serie: Libro 3 de 21 - Series in Materials Science and Engineering
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Editorial: CRC Press, 2007
Serie: Libro 3 de 21 - Series in Materials Science and Engineering
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Idioma: Inglés
Editorial: CRC Press, 2007
Serie: Libro 3 de 21 - Series in Materials Science and Engineering
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Idioma: Inglés
Editorial: CRC Press, 2007
Serie: Libro 3 de 21 - Series in Materials Science and Engineering
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Editorial: CRC Press, 2007
Serie: Libro 3 de 21 - Series in Materials Science and Engineering
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Editorial: CRC Press, 2007
Serie: Libro 3 de 21 - Series in Materials Science and Engineering
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Idioma: Inglés
Editorial: Taylor & Francis Group, 2007
Serie: Libro 3 de 21 - Series in Materials Science and Engineering
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Idioma: Inglés
Editorial: CRC Press, 2007
Serie: Libro 3 de 21 - Series in Materials Science and Engineering
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Condición: New. C.K Maiti, S Chattopadhyay, L.K BeraA combination of the materials science, manufacturing processes, and pioneering research and developments of SiGe and strained-Si have offered an unprecedented high level of performance enhancement at low manufactu.
Idioma: Inglés
Editorial: Inst of Physics Pub Inc, 2007
Serie: Libro 3 de 21 - Series in Materials Science and Engineering
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Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino UnidoRevaluation Books
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Hardcover. Condición: Brand New. 1st edition. 440 pages. 9.50x6.50x0.75 inches. In Stock.
Idioma: Inglés
Editorial: Taylor & Francis Group, 2007
Serie: Libro 3 de 21 - Series in Materials Science and Engineering
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Librería: Biblios, frankfurt am main, HESSE, AlemaniaBiblios
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Editorial: Taylor & Francis Ltd Jan 2007, 2007
Serie: Libro 3 de 21 - Series in Materials Science and Engineering
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Buch. Condición: Neu. Neuware - This book brings together the materials science, manufacturing processes, and innovative research and developments of SiGe and strained-Si for the first time in book form. It contains the latest state-of-the-art information on strain engineering in silicon CMOS and strained-Si-based integrated circuit technology as well as strain-engineered MOSFETs. The book presents various aspects of silicon heterostructure materials, processes, devices, and applications. It also includes up-to-date research results, a comprehensive list of seminal references, 300 figures, and 30 tables. The diversity of R&D activities and results presented in this book will undoubtedly spark further development in the field.…
Idioma: Inglés
Editorial: Taylor & Francis Group, 2007
Serie: Libro 3 de 21 - Series in Materials Science and Engineering
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Librería: Majestic Books, Hounslow, Reino UnidoMajestic Books
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