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9780128124543 - High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications (16 resultados)
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Majestic Books, Hounslow, Reino Unido
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 192,09
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Books Puddle, New York, NY, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 209,85
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 216,76
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Alemania
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 212,30
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 223,79
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High Power Impulse Magnetron Sputtering | Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: preigu, Osnabrück, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
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Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. High Power Impulse Magnetron Sputtering | Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications | Daniel Lundin (u. a.) | Taschenbuch | Einband - fest (Hardcover) | Englisch | 2019 | Elsevier | EAN 9780128124543 | Verantwortliche Person für die EU: preigu GmbH & Co. KG, Lengericher Landstr. 19, 49078 Osnabrück, mail[at]preigu[dot]de | Anbieter: preigu.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 231,19
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 257,34
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Idioma: Inglés
Publicado por Elsevier Science Publishing Co Inc, US, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Librería: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 279,57
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Añadir al carritoPaperback. Condición: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: moluna, Greven, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 237,45
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Añadir al carritoCondición: New. Includes a comprehensive description of the HiPIMS process from fundamental physics to applications Provides a distinctive link between the process plasma and thin film communities Discusses the industrialization of HiPIMS and its.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Idioma: Inglés
Publicado por Elsevier Science Publishing Co Inc, US, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Librería: Rarewaves.com UK, London, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 263,63
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Añadir al carritoPaperback. Condición: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italia
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 190,19
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Añadir al carritoPaperback. Condición: Brand New. 384 pages. 9.25x6.25x1.00 inches. In Stock. This item is printed on demand.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Idioma: Inglés
Publicado por Elsevier Science & Technology, Elsevier, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Librería: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 184,00
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Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution. Englisch.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por Elsevier Science & Technology, Elsevier, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Librería: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 202,34
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Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
