Daniel tiberiu (20 resultados)
Idioma: Inglés
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Librería: Hamelyn, Madrid, M, EspañaHamelyn
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Condición: Bueno. : Este libro explora la figura de Drácula, analizando si es un mito o una realidad. A través de sus páginas, el autor Daniel Tiberiu Apostol examina la leyenda de Drácula, posiblemente contrastándola con hechos históricos o culturales. El libro, publicado en 2005, ofrece una perspectiva en inglés sobre este per…sonaje icónico. EAN: 9789738642348 Tipo: Libros Categoría: Historia Título: Dracula. Myth or Reality Autor: Daniel Tiberiu Apostol Editorial: ohne Verlagsangabe Idioma: en Páginas: 48 Formato: tapa blanda.
Editorial: Profile Publishing
Librería: Wonder Book, Frederick, MD, Estados Unidos de AmericaWonder Book
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Editorial: ohne Verlagsangabe, 2005
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Condición: fine. Taschenbuch. Zustandsangabe altersgemäß. Sofortversand aus Deutschland. Artikel wiegt maximal 500g. 48 Seiten. englische Sprache.
High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications 1ed
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Librería: Basi6 International, Irving, TX, Estados Unidos de AmericaBasi6 International
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Lundin, Daniel (EDT); Minea, Tiberiu (EDT); Gudmundsson, Jon Tomas (EDT)
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Librería: Biblios, frankfurt am main, HESSE, AlemaniaBiblios
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Lundin, Daniel (EDT); Minea, Tiberiu (EDT); Gudmundsson, Jon Tomas (EDT)
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Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino UnidoGreatBookPricesUK
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Librería: preigu, Osnabrück, Alemaniapreigu
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Taschenbuch. Condición: Neu. High Power Impulse Magnetron Sputtering | Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications | Daniel Lundin (u. a.) | Taschenbuch | Einband - flex.(Paperback) | Englisch | 2019 | Elsevier Inc | EAN 9780128124543 | Verantwortliche Person für die EU: Libri GmbH, Europaallee 1, 36244 Bad Hersfeld,… gpsr[at]libri[dot]de | Anbieter: preigu.
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Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino UnidoRia Christie Collections
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Condición: New. In.
High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Lundin, Daniel (EDT); Minea, Tiberiu (EDT); Gudmundsson, Jon Tomas (EDT)
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Lundin, Daniel (EDT); Minea, Tiberiu (EDT); Gudmundsson, Jon Tomas (EDT)
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Paperback. Condición: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film charact…eristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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EUR 239,90
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Kartoniert / Broschiert. Condición: New. Includes a comprehensive description of the HiPIMS process from fundamental physics to applications Provides a distinctive link between the process plasma and thin film communities Discusses the industrialization of HiPIMS and its.
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Librería: Rarewaves.com UK, London, Reino UnidoRarewaves.com UK
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Paperback. Condición: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film charact…eristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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Paperback. Condición: Brand New. 384 pages. 9.25x6.25x1.00 inches. In Stock. This item is printed on demand.
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Taschenbuch. Condición: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes… in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution. Englisch.
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Taschenbuch. Condición: Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in t…erms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
