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Dracula. Myth or Reality
Librería: Hamelyn, Madrid, M, España
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 8,14
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Se envía de España a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoCondición: Bueno. : Este libro explora la figura de Drácula, analizando si es un mito o una realidad. A través de sus páginas, el autor Daniel Tiberiu Apostol examina la leyenda de Drácula, posiblemente contrastándola con hechos históricos o culturales. El libro, publicado en 2005, ofrece una perspectiva en inglés sobre este personaje icónico. EAN: 9789738642348 Tipo: Libros Categoría: Historia Título: Dracula. Myth or Reality Autor: Daniel Tiberiu Apostol Editorial: ohne Verlagsangabe Idioma: en Páginas: 48 Formato: tapa blanda.
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Bran Museum Art and History
Publicado por Profile Publishing
Librería: Wonder Book, Frederick, MD, Estados Unidos de America
Miembro de asociación: ABAA ILAB
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 19,34
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Añadir al carritoCondición: Very Good. Very Good condition. (Romania, castles, guidebooks).
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Majestic Books, Hounslow, Reino Unido
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 187,93
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Se envía de Reino Unido a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 3 disponibles
Añadir al carritoCondición: New. pp. 398.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Books Puddle, New York, NY, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 205,30
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Se envía dentro de Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 3 disponibles
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 216,92
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Alemania
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 212,30
Envío por EUR 9,95
Se envía de Alemania a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 3 disponibles
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 216,18
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 229,89
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High Power Impulse Magnetron Sputtering | Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: preigu, Osnabrück, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 167,95
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Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. High Power Impulse Magnetron Sputtering | Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications | Daniel Lundin (u. a.) | Taschenbuch | Einband - flex.(Paperback) | Englisch | 2019 | Elsevier | EAN 9780128124543 | Verantwortliche Person für die EU: preigu GmbH & Co. KG, Lengericher Landstr. 19, 49078 Osnabrück, mail[at]preigu[dot]de | Anbieter: preigu.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 254,62
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Añadir al carritoCondición: As New. Unread book in perfect condition.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 257,50
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Idioma: Inglés
Publicado por Elsevier Science Publishing Co Inc, US, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Librería: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 281,52
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Añadir al carritoPaperback. Condición: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Idioma: Inglés
Publicado por Elsevier Science Publishing Co Inc, US, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Librería: Rarewaves.com UK, London, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 264,16
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Añadir al carritoPaperback. Condición: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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DRACULA. Myth or Reality
Publicado por ohne Verlagsangabe, 2005
ISBN 10: 9738642345 ISBN 13: 9789738642348
Librería: biblion2, Obersulm, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 22,00
Envío por EUR 105,00
Se envía de Alemania a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoCondición: fine. Taschenbuch. Zustandsangabe altersgemäß. Sofortversand aus Deutschland. Artikel wiegt maximal 500g. 48 Seiten. englische Sprache.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italia
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 163,31
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Se envía de Italia a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: new. Questo è un articolo print on demand.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 190,57
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Añadir al carritoPaperback. Condición: Brand New. 384 pages. 9.25x6.25x1.00 inches. In Stock. This item is printed on demand.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Idioma: Inglés
Publicado por Elsevier Science & Technology, Elsevier, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Librería: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 184,00
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Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution. Englisch.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por Elsevier Science & Technology|Elsevier, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Librería: moluna, Greven, Alemania
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 179,59
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Añadir al carritoCondición: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of bo.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por Elsevier Science & Technology, Elsevier, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Librería: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 202,34
Envío por EUR 63,15
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Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
