Daniel tiberiu (18 resultados)
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Librería: Hamelyn, Madrid, M, EspañaHamelyn
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EUR 8,14
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Condición: Bueno. : Este libro explora la figura de Drácula, analizando si es un mito o una realidad. A través de sus páginas, el autor Daniel Tiberiu Apostol examina la leyenda de Drácula, posiblemente contrastándola con hechos históricos o culturales. El libro, publicado en 2005, ofrece una perspectiva en inglés sobre este per…sonaje icónico. EAN: 9789738642348 Tipo: Libros Categoría: Historia Título: Dracula. Myth or Reality Autor: Daniel Tiberiu Apostol Editorial: ohne Verlagsangabe Idioma: en Páginas: 48 Formato: tapa blanda.
Editorial: Profile Publishing
Librería: Wonder Book, Frederick, MD, Estados Unidos de AmericaWonder Book
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EUR 19,89
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Condición: Very Good. Very Good condition. (Romania, castles, guidebooks).
Editorial: ohne Verlagsangabe 2005
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Librería: biblion2, Obersulm, Alemaniabiblion2
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EUR 22,00
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Condición: fine. Taschenbuch. Zustandsangabe altersgemäß. Sofortversand aus Deutschland. Artikel wiegt maximal 500g. 48 Seiten. englische Sprache.
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Librería: Majestic Books, Hounslow, Reino UnidoMajestic Books
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Condición: New. pp. 398.
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Librería: Books Puddle, New York, NY, Estados Unidos de AmericaBooks Puddle
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Condición: New. pp. 398.
High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Lundin, Daniel (EDT); Minea, Tiberiu (EDT); Gudmundsson, Jon Tomas (EDT)
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Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de AmericaGreatBookPrices
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Condición: New.
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Librería: Biblios, frankfurt am main, HESSE, AlemaniaBiblios
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Condición: New. pp. 398.
High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Lundin, Daniel (EDT); Minea, Tiberiu (EDT); Gudmundsson, Jon Tomas (EDT)
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Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino UnidoGreatBookPricesUK
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Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino UnidoRia Christie Collections
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Condición: New. In.
High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Lundin, Daniel (EDT); Minea, Tiberiu (EDT); Gudmundsson, Jon Tomas (EDT)
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Condición: As New. Unread book in perfect condition.
High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Lundin, Daniel (EDT); Minea, Tiberiu (EDT); Gudmundsson, Jon Tomas (EDT)
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Librería: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Reino UnidoRarewaves.com USA
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Paperback. Condición: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film charact…eristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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Librería: moluna, Greven, Alemaniamoluna
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EUR 237,45
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Condición: New. Includes a comprehensive description of the HiPIMS process from fundamental physics to applications Provides a distinctive link between the process plasma and thin film communities Discusses the industrialization of HiPIMS and its.
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Librería: Rarewaves.com UK, London, Reino UnidoRarewaves.com UK
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Paperback. Condición: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film charact…eristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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Librería: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, ItaliaBrook Bookstore On Demand
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Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino UnidoRevaluation Books
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Paperback. Condición: Brand New. 384 pages. 9.25x6.25x1.00 inches. In Stock. This item is printed on demand.
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Librería: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, AlemaniaBuchWeltWeit Ludwig Meier e.K.
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EUR 184,00
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Taschenbuch. Condición: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes… in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution. Englisch.
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Taschenbuch. Condición: Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in t…erms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
