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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 152,15
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Majestic Books, Hounslow, Reino Unido
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 191,06
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Librería: Books Puddle, New York, NY, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 206,85
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Books Puddle, New York, NY, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 208,72
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Librería: Buchpark, Trebbin, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 99,21
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Añadir al carritoCondición: Hervorragend. Zustand: Hervorragend | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | This book introduces readers to the physics governing electron emission under high voltages and temperatures, and highlights recent modeling and numerical developments for describing these phenomena. It begins with a brief introduction, presenting several applications that have driven electron emission research in the last few decades. The authors summarize the most relevant theories including the physics of thermo-field electron emission and the main characteristic parameters. Based on these theories, they subsequently describe numerical multi-physics models and discuss the main findings on the effect of space charges, emitter geometry, pulse duration, etc.Beyond the well-known photoelectric effect, the book reviews recent advanced theories on photon-metal interaction. Distinct phenomena occur when picosecond and femtosecond lasers are used to irradiate a surface. Their consequences on metal electron dynamics and heating are presented and discussed, leading to various emission regimes ¿ in and out of equilibrium. In closing, the book reviews the effects of electron emission on high-voltage operation in vacuum, especially breakdown and conditioning, as the most common examples. The book offers a uniquely valuable resource for graduate and PhD students whose work involves electron emission, high-voltage holding, laser irradiation of surfaces, vacuum or discharge breakdown, but also for academic researchers and professionals in the field of accelerators and solid state physics with an interest in this highly topical area.
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Librería: Books Puddle, New York, NY, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 212,35
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Añadir al carritoCondición: New. 1st ed. 2022 edition NO-PA16APR2015-KAP.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 218,21
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Alemania
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 212,30
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 221,66
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 231,84
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Añadir al carritoPaperback. Condición: Brand New. 230 pages. 9.25x6.10x0.49 inches. In Stock.
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 233,82
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Añadir al carritoHardcover. Condición: Brand New. 230 pages. 9.25x6.10x0.56 inches. In Stock.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering | Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: preigu, Osnabrück, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 167,95
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Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. High Power Impulse Magnetron Sputtering | Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications | Daniel Lundin (u. a.) | Taschenbuch | Einband - fest (Hardcover) | Englisch | 2019 | Elsevier | EAN 9780128124543 | Verantwortliche Person für die EU: preigu GmbH & Co. KG, Lengericher Landstr. 19, 49078 Osnabrück, mail[at]preigu[dot]de | Anbieter: preigu.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 232,28
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 257,99
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 258,27
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Idioma: Inglés
Publicado por Elsevier Science Publishing Co Inc, US, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Librería: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 280,69
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Añadir al carritoPaperback. Condición: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: moluna, Greven, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 237,45
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Añadir al carritoCondición: New. Includes a comprehensive description of the HiPIMS process from fundamental physics to applications Provides a distinctive link between the process plasma and thin film communities Discusses the industrialization of HiPIMS and its.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Idioma: Inglés
Publicado por Elsevier Science Publishing Co Inc, US, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Librería: Rarewaves.com UK, London, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 264,87
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Añadir al carritoPaperback. Condición: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 155,00
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Añadir al carritoHardcover. Condición: Brand New. 230 pages. 9.25x6.10x0.56 inches. In Stock. This item is printed on demand.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italia
Calificación del vendedor: 3 de 5 estrellas
EUR 163,31
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 191,08
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Añadir al carritoPaperback. Condición: Brand New. 384 pages. 9.25x6.25x1.00 inches. In Stock. This item is printed on demand.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Idioma: Inglés
Publicado por Elsevier Science & Technology, Elsevier, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Librería: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 184,00
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Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution. Englisch.
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Librería: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Alemania
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 202,62
Envío por EUR 9,95
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Librería: Majestic Books, Hounslow, Reino Unido
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 217,08
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Librería: Majestic Books, Hounslow, Reino Unido
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 218,17
Envío por EUR 7,52
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Librería: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Alemania
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 217,38
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por Elsevier Science & Technology, Elsevier, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Librería: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 202,34
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