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Materials Characterization for Process Control and Product Conformity: Introduction to Methods for Nondestructive Characterization of Materials . During Production, Operation, and Inspection
Librería: Zubal-Books, Since 1961, Cleveland, OH, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 10,18
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Añadir al carritoCondición: Good. 242 pp., Hardcover, ex library, else text clean & binding tight. - If you are reading this, this item is actually (physically) in our stock and ready for shipment once ordered. We are not bookjackers. Buyer is responsible for any additional duties, taxes, or fees required by recipient's country.
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Materials Characterization for Process Control and Product Conformity
Librería: Anybook.com, Lincoln, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 9,92
Envío por EUR 15,41
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Añadir al carritoCondición: Good. This is an ex-library book and may have the usual library/used-book markings inside.This book has hardback covers. In good all round condition. Please note the Image in this listing is a stock photo and may not match the covers of the actual item,650grams, ISBN:0849389577.
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Vlsi Electronics Microstructure Science Volume 6: Materials and Process Characterization
Librería: Daedalus Books, Portland, OR, Estados Unidos de America
Miembro de asociación: CBA
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
Original o primera edición
EUR 24,64
Envío por EUR 5,82
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Añadir al carritoHardcover. Condición: Very Good. Estado de la sobrecubierta: No Dust Jacket. First Edition. Name penned to top edge. A nice, crisp copy. ; 8vo ; 601 pages.
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Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability (Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices)
Librería: Lucky's Textbooks, Dallas, TX, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 28,54
Envío por EUR 3,32
Se envía dentro de Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New.
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Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability (Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices)
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 33,16
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Añadir al carritoCondición: New. In English.
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Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability (Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices)
Librería: Books Puddle, New York, NY, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 42,85
Envío por EUR 3,32
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Añadir al carritoCondición: New. 1st edition NO-PA16APR2015-KAP.
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Vlsi Electronics Microstructure Science Volume 6 : Materials and Process Characterization
Librería: Feldman's Books, Menlo Park, CA, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
Original o primera edición
EUR 55,70
Envío por EUR 3,74
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Añadir al carritoHardcover. Condición: Fine. 1st Edition. No Markings.
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Advanced Characterization and On-Line Process Monitoring of Additively Manufactured Materials and Components
Librería: California Books, Miami, FL, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 65,98
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Advanced Characterization and On-Line Process Monitoring of Additively Manufactured Materials and Components
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 71,98
Envío por EUR 13,78
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Hf-BASED HIGH-k DIELECTRICS: Process Development, Performance Characterization, and Reliability (Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices)
Idioma: Inglés
Publicado por Morgan and Claypool Publishers, 2005
ISBN 10: 1598290045 ISBN 13: 9781598290042
Librería: The Book Spot, Sioux Falls, MN, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 89,98
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Añadir al carritoPaperback. Condición: New.
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Purification Process and Characterization of Ultra High Purity Metals: Application of Basic Science to Metallurgical Processing (Springer Series in Materials Processing)
Libro 3 de 4: Springer Series in Materials ProcessingLibrería: Lucky's Textbooks, Dallas, TX, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 100,18
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Advanced Characterization and On-Line Process Monitoring of Additively Manufactured Materials and Components
Librería: Books Puddle, New York, NY, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 114,74
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Purification Process and Characterization of Ultra High Purity Metals: Application of Basic Science to Metallurgical Processing (Springer Series in Materials Processing)
Libro 3 de 4: Springer Series in Materials ProcessingLibrería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 111,72
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Materials and Process Characterization: VLSI Electronics Microstructure Science, Vol. 6
Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 116,39
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Añadir al carritoPaperback. Condición: Brand New. 614 pages. 9.25x6.00x1.39 inches. In Stock.
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Fundamentals of Bias Temperature Instability in MOS Transistors: Characterization Methods, Process and Materials Impact, DC and AC Modeling (Springer Series in Advanced Microelectronics, 52)
Librería: Books Puddle, New York, NY, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 140,32
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Añadir al carritoCondición: New. pp. 286.
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Chemistry of Superconductor Materials: Preparation, Chemistry, Characterization, and Theory (Materials Science and Process Technology Series)
Librería: Stephen White Books, Bradford, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 122,46
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Añadir al carritoHardcover. Condición: Good. Ex-library book, usual markings. Clean copy in good condition. Quick dispatch from UK seller.
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Fundamentals of Bias Temperature Instability in MOS Transistors | Characterization Methods, Process and Materials Impact, DC and AC Modeling
Librería: preigu, Osnabrück, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 94,00
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Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. Fundamentals of Bias Temperature Instability in MOS Transistors | Characterization Methods, Process and Materials Impact, DC and AC Modeling | Souvik Mahapatra | Taschenbuch | xvi | Englisch | 2016 | Springer | EAN 9788132234241 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter: preigu.
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Process-Induced Phase Separation In Polymer Blends Materials, Characterization, Properties, And Applications
Librería: Basi6 International, Irving, TX, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 168,20
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Añadir al carritoCondición: Brand New. New. US edition. Expediting shipping for all USA and Europe orders excluding PO Box. Excellent Customer Service.
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Process-Induced Phase Separation in Polymer Blen - Materials, Characterization, Properties, and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por MP-HNR Hanser Publishers, 2023
ISBN 10: 1569909016 ISBN 13: 9781569909010
Librería: PBShop.store UK, Fairford, GLOS, Reino Unido
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 165,51
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Añadir al carritoHRD. Condición: New. New Book. Shipped from UK. Established seller since 2000.
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Fundamentals of Bias Temperature Instability in MOS Transistors : Characterization Methods, Process and Materials Impact, DC and AC Modeling
Idioma: Inglés
Publicado por Springer India, Springer India, 2016
ISBN 10: 8132234243 ISBN 13: 9788132234241
Librería: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 112,94
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Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book aims to cover different aspects of Bias Temperature Instability (BTI). BTI remains as an important reliability concern for CMOS transistors and circuits. Development of BTI resilient technology relies on utilizing artefact-free stress and measurement methods and suitable physics-based models for accurate determination of degradation at end-of-life and understanding the gate insulator process impact on BTI. This book discusses different ultra-fast characterization techniques for recovery artefact free BTI measurements. It also covers different direct measurements techniques to access pre-existing and newly generated gate insulator traps responsible for BTI. The book provides a consistent physical framework for NBTI and PBTI respectively for p- and n- channel MOSFETs, consisting of trap generation and trapping. A physics-based compact model is presented to estimate measured BTI degradation in planar Si MOSFETs having differently processed SiON and HKMG gate insulators, in planar SiGe MOSFETs and also in Si FinFETs. The contents also include a detailed investigation of the gate insulator process dependence of BTI in differently processed SiON and HKMG MOSFETs. The book then goes on to discuss Reaction-Diffusion (RD) model to estimate generation of new traps for DC and AC NBTI stress and Transient Trap Occupancy Model (TTOM) to estimate charge occupancy of generated traps and their contribution to BTI degradation. Finally, a comprehensive NBTI modeling framework including TTOM enabled RD model and hole trapping to predict time evolution of BTI degradation and recovery during and after DC stress for different stress and recovery biases and temperature, during consecutive arbitrary stress and recovery cycles and during AC stress at different frequency and duty cycle. The contents of this book should prove useful to academia and professionals alike.
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Fundamentals of Bias Temperature Instability in MOS Transistors : Characterization Methods, Process and Materials Impact, DC and AC Modeling
Idioma: Inglés
Publicado por Springer India, Springer India, 2015
ISBN 10: 8132225074 ISBN 13: 9788132225072
Librería: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 111,53
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Añadir al carritoBuch. Condición: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book aims to cover different aspects of Bias Temperature Instability (BTI). BTI remains as an important reliability concern for CMOS transistors and circuits. Development of BTI resilient technology relies on utilizing artefact-free stress and measurement methods and suitable physics-based models for accurate determination of degradation at end-of-life and understanding the gate insulator process impact on BTI. This book discusses different ultra-fast characterization techniques for recovery artefact free BTI measurements. It also covers different direct measurements techniques to access pre-existing and newly generated gate insulator traps responsible for BTI. The book provides a consistent physical framework for NBTI and PBTI respectively for p- and n- channel MOSFETs, consisting of trap generation and trapping. A physics-based compact model is presented to estimate measured BTI degradation in planar Si MOSFETs having differently processed SiON and HKMG gate insulators, in planar SiGe MOSFETs and also in Si FinFETs. The contents also include a detailed investigation of the gate insulator process dependence of BTI in differently processed SiON and HKMG MOSFETs. The book then goes on to discuss Reaction-Diffusion (RD) model to estimate generation of new traps for DC and AC NBTI stress and Transient Trap Occupancy Model (TTOM) to estimate charge occupancy of generated traps and their contribution to BTI degradation. Finally, a comprehensive NBTI modeling framework including TTOM enabled RD model and hole trapping to predict time evolution of BTI degradation and recovery during and after DC stress for different stress and recovery biases and temperature, during consecutive arbitrary stress and recovery cycles and during AC stress at different frequency and duty cycle. The contents of this book should prove useful to academia and professionals alike.
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Fundamentals of Bias Temperature Instability in MOS Transistors : Characterization Methods, Process and Materials Impact, DC and AC Modeling
Librería: Buchpark, Trebbin, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 74,31
Envío por EUR 105,00
Se envía de Alemania a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoCondición: Sehr gut. Zustand: Sehr gut | Seiten: 288 | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | Keine Beschreibung verfügbar.
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Fundamentals of Bias Temperature Instability in MOS Transistors: Characterization Methods, Process and Materials Impact, DC and AC Modeling (Springer Series in Advanced Microelectronics)
Librería: Mispah books, Redhill, SURRE, Reino Unido
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 161,13
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Se envía de Reino Unido a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoHardcover. Condición: Like New. Like New. book.
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Fundamentals of Bias Temperature Instability in MOS Transistors: Characterization Methods, Process and Materials Impact, DC and AC Modeling
Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 154,19
Envío por EUR 28,76
Se envía de Reino Unido a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoPaperback. Condición: Brand New. reprint edition. 269 pages. 9.25x6.10x0.68 inches. In Stock.
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Soils and Waves: Particulate Materials Behavior, Characterization and Process Monitoring
Librería: HPB-Red, Dallas, TX, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 185,76
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Se envía dentro de Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoHardcover. Condición: Good. Connecting readers with great books since 1972! Used textbooks may not include companion materials such as access codes, etc. May have some wear or writing/highlighting. We ship orders daily and Customer Service is our top priority!
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Process-Induced Phase Separation in Polymer Blends: Materials, Characterization, Properties, and Applications
Librería: ALLBOOKS1, Direk, SA, Australia
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 190,93
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Se envía de Australia a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoBrand new book. Fast ship. Please provide full street address as we are not able to ship to P O box address.
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Fundamentals of Bias Temperature Instability in MOS Transistors: Characterization Methods, Process and Materials Impact, DC and AC Modeling (Springer Series in Advanced Microelectronics)
Librería: Books Puddle, New York, NY, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 195,54
Envío por EUR 3,32
Se envía dentro de Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 4 disponibles
Añadir al carritoCondición: New. pp. 269.
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Edición internacionalMATERIALS CHARACTERIZATION FOR PROCESS CONTROL AND PRODUCT CONFORMITY
Librería: UK BOOKS STORE, London, LONDO, Reino Unido
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 199,33
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Se envía de Reino Unido a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 1 disponibles
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Fundamentals of Bias Temperature Instability in MOS Transistors: Characterization Methods, Process and Materials Impact, DC and AC Modeling
Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 198,24
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Se envía de Reino Unido a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoPaperback. Condición: Brand New. reprint edition. 269 pages. 9.25x6.10x0.68 inches. In Stock.
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Soils and Waves: Particulate Materials Behavior, Characterization and Process Monitoring (Lasers and Fibre Optics Series)
Librería: Phatpocket Limited, Waltham Abbey, HERTS, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 256,24
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