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Measurement of Dissolved Oxygen
Idioma: Inglés
Publicado por Wiley & Sons, Incorporated, John, 1978
ISBN 10: 0471038857 ISBN 13: 9780471038856
Librería: Better World Books, Mishawaka, IN, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 49,42
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Añadir al carritoCondición: Good. Former library copy. Pages intact with minimal writing/highlighting. The binding may be loose and creased. Dust jackets/supplements are not included. Includes library markings. Stock photo provided. Product includes identifying sticker. Better World Books: Buy Books. Do Good.
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Measurement of dissolved oxygen (Chemical analysis)
Librería: Booksavers of Virginia, Harrisonburg, VA, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 45,09
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Se envía dentro de Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritohardcover. Condición: Good. Estado de la sobrecubierta: Good. Binding tight, pages unmarked except previous owner's name on front endsheet. Cover is very good. The DJ is good with slight bumping along the edges. Your purchase benefits the world-wide relief efforts of Mennonite Central Committee.
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: Romtrade Corp., STERLING HEIGHTS, MI, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 118,76
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: Basi6 International, Irving, TX, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 119,70
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Geometry with an Introduction to Cosmic Topology
Idioma: Inglés
Publicado por CreateSpace Independent Publishing Platform, 2018
ISBN 10: 1717134815 ISBN 13: 9781717134813
Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 12,30
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Añadir al carritoPaperback. Condición: Brand New. 275 pages. 9.00x6.00x0.62 inches. This item is printed on demand.
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Measurement of Dissolved Oxygen
Librería: Rob the Book Man, Vancouver, WA, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 116,33
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Añadir al carritoHardcover. Condición: Very Good. Estado de la sobrecubierta: Good. Hardback in very good + condition with good + condition dust jacket.
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: SMASS Sellers, IRVING, TX, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 125,31
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Chemical Vapour Deposition
Idioma: Inglés
Publicado por Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: Romtrade Corp., STERLING HEIGHTS, MI, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 142,74
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: Romtrade Corp., STERLING HEIGHTS, MI, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: Basi6 International, Irving, TX, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 143,89
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CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION
Idioma: Inglés
Publicado por Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: Basi6 International, Irving, TX, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
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Chemical Vapour Deposition
Idioma: Inglés
Publicado por Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: SMASS Sellers, IRVING, TX, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 152,73
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Ligand Field Theory and Its Applications
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 168,57
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Ligand Field Theory and Its Applications (eng)
Librería: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italia
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 154,44
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Ligand Field Theory and Its Applications
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 160,08
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Ligand Field Theory and Its Applications (Special Topics in Inorganic Chemistry)
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 169,09
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Ligand Field Theory and Its Applications
Idioma: Inglés
Publicado por John Wiley and Sons Inc, US, 2000
ISBN 10: 0471317764 ISBN 13: 9780471317760
Librería: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 213,39
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Añadir al carritoHardback. Condición: New. Die langerwartete aktualisierte Neuauflage des bewährten Klassikers! Seit dem Erscheinen der ersten Auflage ist das Gebiet der Ligandenfeldtheorie förmlich explodiert; inzwischen weiß man auch, wie, warum und unter welchen Voraussetzungen sich die theoretischen Erkenntnisse auf die Praxis übertragen lassen. Dieser einzige moderne Abriß der Ligandenfeldtheorie erläutert Methoden zur Erfassung der Bindungssituation in Übergangsmetallkomplexen sowie Anwendungen zur Interpretation struktureller, spektraler und magnetischer Eigenschaften. (01/00).
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Ligand Field Theory and Its Applications
Librería: Majestic Books, Hounslow, Reino Unido
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 207,88
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Añadir al carritoCondición: New. pp. xviii + 354 Illus.
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Ligand Field Theory and Its Applications
Librería: Books Puddle, New York, NY, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas
EUR 222,07
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Añadir al carritoCondición: New. pp. xviii + 354 1st Edition.
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Ligand Field Theory and Its Applications (Special Topics in Inorganic Chemistry)
Idioma: Inglés
Publicado por Vch Verlagsgesellschaft Mbh, 1999
ISBN 10: 0471317764 ISBN 13: 9780471317760
Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 241,74
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Añadir al carritoHardcover. Condición: Brand New. 1st edition. 354 pages. 9.75x6.75x1.00 inches. In Stock.
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Ligand Field Theory and Its Applications
Idioma: Inglés
Publicado por John Wiley and Sons Inc, US, 2000
ISBN 10: 0471317764 ISBN 13: 9780471317760
Librería: Rarewaves.com UK, London, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 201,67
Envío por EUR 76,22
Se envía de Reino Unido a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoHardback. Condición: New. Die langerwartete aktualisierte Neuauflage des bewährten Klassikers! Seit dem Erscheinen der ersten Auflage ist das Gebiet der Ligandenfeldtheorie förmlich explodiert; inzwischen weiß man auch, wie, warum und unter welchen Voraussetzungen sich die theoretischen Erkenntnisse auf die Praxis übertragen lassen. Dieser einzige moderne Abriß der Ligandenfeldtheorie erläutert Methoden zur Erfassung der Bindungssituation in Übergangsmetallkomplexen sowie Anwendungen zur Interpretation struktureller, spektraler und magnetischer Eigenschaften. (01/00).
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 283,94
Envío por EUR 14,05
Se envía de Reino Unido a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 4 disponibles
Añadir al carritoCondición: New. In.
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Chemical Vapour Deposition : Precursors, Processes and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 283,92
Envío por EUR 17,59
Se envía de Reino Unido a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 11 disponibles
Añadir al carritoCondición: New.
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Chemical Vapour Deposition : Precursors, Processes and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 303,44
Envío por EUR 2,31
Se envía dentro de Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 11 disponibles
Añadir al carritoCondición: New.
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Chemical Vapour Deposition
Idioma: Inglés
Publicado por Royal Society of Chemistry, GB, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 313,61
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Se envía de Reino Unido a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoHardback. Condición: New. Chemical Vapour Deposition (CVD) involves the deposition of thin solid films from chemical precursors in the vapour phase, and encompasses a variety of deposition techniques, including a range of thermal processes, plasma enhanced CVD (PECVD), photon- initiated CVD, and atomic layer deposition (ALD). The development of CVD technology owes a great deal to collaboration between different scientific disciplines such as chemistry, physics, materials science, engineering and microelectronics, and the publication of this book will promote and stimulate continued dialogue between scientists from these different research areas. The book is one of the most comprehensive overviews ever written on the key aspects of chemical vapour deposition processes and it is more comprehensive, technically detailed and up-to-date than other books on CVD. The contributing authors are all practising CVD technologists and are leading international experts in the field of CVD. It presents a logical and progressive overview of the various aspects of CVD processes. Basic concepts, such as the various types of CVD processes, the design of CVD reactors, reaction modelling and CVD precursor chemistry are covered in the first few chapters. Then follows a detailed description of the use of a variety CVD techniques to deposit a wide range of materials, including semiconductors, metals, metal oxides and nitrides, protective coatings and functional coatings on glass. Finally and uniquely, for a technical volume, industrial and commercial aspects of CVD are also discussed together with possible future trends, which is an unusual, but very important aspect of the book. The book has been written with CVD practitioners in mind, such as the chemist who wishes to learn more about CVD processes, or the CVD technologist who wishes to gain an increased knowledge of precursor chemistry. The volume will prove particularly useful to those who have recently entered the field, and it will also make a valuable contribution to chemistry and materials science lecture courses at undergraduate and postgraduate level.
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Chemical Vapour Deposition : Precursors, Processes and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 318,20
Envío por EUR 2,31
Se envía dentro de Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 11 disponibles
Añadir al carritoCondición: As New. Unread book in perfect condition.
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EUROCVD-15: Fifteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition - Proceedings of the International Symposium Devi, Anjana; Parala, Harish; Hitchman, Michael L. (Eds.)
Idioma: Inglés
Publicado por The Electrochemical Society, 2005
ISBN 10: 1566774276 ISBN 13: 9781566774277
Librería: BUCHSERVICE / ANTIQUARIAT Lars Lutzer, Wahlstedt, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 279,90
Envío por EUR 39,95
Se envía de Alemania a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoHardcover. Condición: gut. 2005. EUROCVD-15: Fifteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition - Proceedings of the International Symposium In englischer Sprache. pages.
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Chemical Vapour Deposition : Precursors, Processes and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 314,40
Envío por EUR 17,59
Se envía de Reino Unido a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 11 disponibles
Añadir al carritoCondición: As New. Unread book in perfect condition.
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Idioma: Inglés
Publicado por ROYAL SOCIETY OF CHEMISTRY, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Librería: moluna, Greven, Alemania
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 274,67
Envío por EUR 48,99
Se envía de Alemania a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 2 disponibles
Añadir al carritoGebunden. Condición: New. A comprehensive overview on the key aspects of chemical vapour deposition processes written by practising CVD technologists who are also leading international experts.Über den AutorrnrnAnthony C Jones is a Professor in the Department of.
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Ligand Field Theory and Its Applications
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 347,85
Envío por EUR 17,59
Se envía de Reino Unido a Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: As New. Unread book in perfect condition.
