High-Resolution X-Ray Scattering: From Thin Films to Lateral Nanostructures (Advanced Texts in Physics)
Pietsch, Ullrich; Holy, Vaclav; Baumbach, Tilo
ISBN 10: 0387400923 ISBN 13: 9780387400921
Editorial: Springer, 2004
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During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other materials. For example, optoelectronics requires a subsequent epitaxy of thin layers of different semiconductor materials. Here, the individuallayer thicknesses are scaled down to a few atomic layers in order to exploit quantum effects. For reasons of electronic and optical confinement, these thin layers are embedded within much thicker cladding layers or stacks of multilayers of slightly different chemical composition. It is evident that the interface quality of those quantum weHs is quite important for the function of devices. Thin metallic layers often show magnetic properties which do not ap pear for thick layers or in bulk material. The investigation of the mutual interaction of magnetic and non-magnetic layers leads to the discovery of colossal magnetoresistance, for example. This property is strongly related to the thickness and interface roughness of covered layers.
Reseña del editor: During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other materials. For example, optoelectronics requires a subsequent epitaxy of thin layers of different semiconductor materials. Here, the individuallayer thicknesses are scaled down to a few atomic layers in order to exploit quantum effects. For reasons of electronic and optical confinement, these thin layers are embedded within much thicker cladding layers or stacks of multilayers of slightly different chemical composition. It is evident that the interface quality of those quantum weHs is quite important for the function of devices. Thin metallic layers often show magnetic properties which do not ap pear for thick layers or in bulk material. The investigation of the mutual interaction of magnetic and non-magnetic layers leads to the discovery of colossal magnetoresistance, for example. This property is strongly related to the thickness and interface roughness of covered layers.
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Detalles bibliográficos
Título: High-Resolution X-Ray Scattering: From Thin ...
Editorial: Springer
Año de publicación: 2004
Encuadernación: Encuadernación de tapa dura
Condición: New
Edición: 2ª Edición
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High-resolution X-ray scattering. From thin films and lateral nanostructures.
Publicado por
New York, Springer, 2004
ISBN 10: 0387400923
ISBN 13: 9780387400921
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High-Resolution X-Ray Scattering : From Thin Films to Lateral Nanostructures
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Springer-Verlag GmbH, 2004
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Condición: Sehr gut. Zustand: Sehr gut | Seiten: 408 | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other materials. For example, optoelectronics requires a subsequent epitaxy of thin layers of different semiconductor materials. Here, the individuallayer thicknesses are scaled down to a few atomic layers in order to exploit quantum effects. For reasons of electronic and optical confinement, these thin layers are embedded within much thicker cladding layers or stacks of multilayers of slightly different chemical composition. It is evident that the interface quality of those quantum weHs is quite important for the function of devices. Thin metallic layers often show magnetic properties which do not ap pear for thick layers or in bulk material. The investigation of the mutual interaction of magnetic and non-magnetic layers leads to the discovery of colossal magnetoresistance, for example. This property is strongly related to the thickness and interface roughness of covered layers. Nº de ref. del artículo: 1634323/2
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High-Resolution X-Ray Scattering: From Thin Films to Lateral Nanostructures (Advanced Texts in Physics) [Hardcover] Pietsch, Ullrich; Holy, Vaclav and Baumbach, Tilo
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High-Resolution X-Ray Scattering | From Thin Films to Lateral Nanostructures
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Buch. Condición: Neu. High-Resolution X-Ray Scattering | From Thin Films to Lateral Nanostructures | Ulrich Pietsch (u. a.) | Buch | Advanced Texts in Physics | xvi | Englisch | 2004 | Springer-Verlag GmbH | EAN 9780387400921 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter: preigu. Nº de ref. del artículo: 102438926
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