Artículos relacionados a High-Resolution X-Ray Scattering: From Thin Films to...

High-Resolution X-Ray Scattering: From Thin Films to Lateral Nanostructures (Advanced Texts in Physics) - Tapa blanda

 
9781441923073: High-Resolution X-Ray Scattering: From Thin Films to Lateral Nanostructures (Advanced Texts in Physics)

Sinopsis

During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other materials. For example, optoelectronics requires a subsequent epitaxy of thin layers of different semiconductor materials. Here, the individuallayer thicknesses are scaled down to a few atomic layers in order to exploit quantum effects. For reasons of electronic and optical confinement, these thin layers are embedded within much thicker cladding layers or stacks of multilayers of slightly different chemical composition. It is evident that the interface quality of those quantum weHs is quite important for the function of devices. Thin metallic layers often show magnetic properties which do not ap­ pear for thick layers or in bulk material. The investigation of the mutual interaction of magnetic and non-magnetic layers leads to the discovery of colossal magnetoresistance, for example. This property is strongly related to the thickness and interface roughness of covered layers.

"Sinopsis" puede pertenecer a otra edición de este libro.

Reseña del editor

During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other materials. For example, optoelectronics requires a subsequent epitaxy of thin layers of different semiconductor materials. Here, the individuallayer thicknesses are scaled down to a few atomic layers in order to exploit quantum effects. For reasons of electronic and optical confinement, these thin layers are embedded within much thicker cladding layers or stacks of multilayers of slightly different chemical composition. It is evident that the interface quality of those quantum weHs is quite important for the function of devices. Thin metallic layers often show magnetic properties which do not ap­ pear for thick layers or in bulk material. The investigation of the mutual interaction of magnetic and non-magnetic layers leads to the discovery of colossal magnetoresistance, for example. This property is strongly related to the thickness and interface roughness of covered layers.

Reseña del editor

The book presents a detailed description of high-resolution x-ray scattering methods suitable for the investigation of the real structure of single-crystalline layers and multilayers, including structure defects in the layers and at the interfaces. Particular attention is devoted to lateral structures in semiconductors and semiconductor multilayers such as quantum wires and quantum dots. Both the theoretical background and the application of the methods are discussed. The second edition is extended to deal with lateral surface nanostructures such as gratings and dots, new examples for measuring layer thickness, lattice mismatch, and surface/interface roughness. The book will be an invaluable source for graduates and scientists.

"Sobre este título" puede pertenecer a otra edición de este libro.

Comprar usado

Condición: Como Nuevo
Unread book in perfect condition...
Ver este artículo

EUR 2,25 gastos de envío en Estados Unidos de America

Destinos, gastos y plazos de envío

Comprar nuevo

Ver este artículo

EUR 7,65 gastos de envío en Estados Unidos de America

Destinos, gastos y plazos de envío

Otras ediciones populares con el mismo título

9780387400921: High-Resolution X-Ray Scattering: From Thin Films to Lateral Nanostructures (Advanced Texts in Physics)

Edición Destacada

ISBN 10:  0387400923 ISBN 13:  9780387400921
Editorial: Springer, 2004
Tapa dura

Resultados de la búsqueda para High-Resolution X-Ray Scattering: From Thin Films to...

Imagen de archivo

Pietsch, Ullrich; Holy, Vaclav; Baumbach, Tilo
Publicado por Springer, 2011
ISBN 10: 1441923071 ISBN 13: 9781441923073
Nuevo Tapa blanda

Librería: Best Price, Torrance, CA, Estados Unidos de America

Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas Valoración 5 estrellas, Más información sobre las valoraciones de los vendedores

Condición: New. SUPER FAST SHIPPING. Nº de ref. del artículo: 9781441923073

Contactar al vendedor

Comprar nuevo

EUR 87,38
Convertir moneda
Gastos de envío: EUR 7,65
A Estados Unidos de America
Destinos, gastos y plazos de envío

Cantidad disponible: 1 disponibles

Añadir al carrito

Imagen del vendedor

Pietsch, Ullrich; Holy, Vaclav; Baumbach, Tilo
Publicado por Springer, 2011
ISBN 10: 1441923071 ISBN 13: 9781441923073
Nuevo Tapa blanda

Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America

Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas Valoración 5 estrellas, Más información sobre las valoraciones de los vendedores

Condición: New. Nº de ref. del artículo: 18953184-n

Contactar al vendedor

Comprar nuevo

EUR 92,92
Convertir moneda
Gastos de envío: EUR 2,25
A Estados Unidos de America
Destinos, gastos y plazos de envío

Cantidad disponible: 15 disponibles

Añadir al carrito

Imagen de archivo

Vaclav Holy
ISBN 10: 1441923071 ISBN 13: 9781441923073
Nuevo Paperback

Librería: Grand Eagle Retail, Mason, OH, Estados Unidos de America

Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas Valoración 5 estrellas, Más información sobre las valoraciones de los vendedores

Paperback. Condición: new. Paperback. The book presents a detailed description of high-resolution x-ray scattering methods suitable for the investigation of the real structure of single-crystalline layers and multilayers, including structure defects in the layers and at the interfaces. Particular attention is devoted to lateral structures in semiconductors and semiconductor multilayers such as quantum wires and quantum dots. Both the theoretical background and the application of the methods are discussed. The second edition is extended to deal with lateral surface nanostructures such as gratings and dots, new examples for measuring layer thickness, lattice mismatch, and surface/interface roughness. The book will be an invaluable source for graduates and scientists. During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other materials. Shipping may be from multiple locations in the US or from the UK, depending on stock availability. Nº de ref. del artículo: 9781441923073

Contactar al vendedor

Comprar nuevo

EUR 95,25
Convertir moneda
Gastos de envío: GRATIS
A Estados Unidos de America
Destinos, gastos y plazos de envío

Cantidad disponible: 1 disponibles

Añadir al carrito

Imagen de archivo

Pietsch, Ullrich; Holy, Vaclav; Baumbach, Tilo
Publicado por Springer, 2011
ISBN 10: 1441923071 ISBN 13: 9781441923073
Nuevo Tapa blanda

Librería: Lucky's Textbooks, Dallas, TX, Estados Unidos de America

Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas Valoración 5 estrellas, Más información sobre las valoraciones de los vendedores

Condición: New. Nº de ref. del artículo: ABLIING23Mar2411530294055

Contactar al vendedor

Comprar nuevo

EUR 93,54
Convertir moneda
Gastos de envío: EUR 3,40
A Estados Unidos de America
Destinos, gastos y plazos de envío

Cantidad disponible: Más de 20 disponibles

Añadir al carrito

Imagen de archivo

Pietsch, Ullrich; Holy, Vaclav; Baumbach, Tilo
Publicado por Springer, 2011
ISBN 10: 1441923071 ISBN 13: 9781441923073
Nuevo Tapa blanda

Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido

Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas Valoración 5 estrellas, Más información sobre las valoraciones de los vendedores

Condición: New. In. Nº de ref. del artículo: ria9781441923073_new

Contactar al vendedor

Comprar nuevo

EUR 93,62
Convertir moneda
Gastos de envío: EUR 13,76
De Reino Unido a Estados Unidos de America
Destinos, gastos y plazos de envío

Cantidad disponible: Más de 20 disponibles

Añadir al carrito

Imagen de archivo

Pietsch, Ullrich
Publicado por Springer 2011-12, 2011
ISBN 10: 1441923071 ISBN 13: 9781441923073
Nuevo PF

Librería: Chiron Media, Wallingford, Reino Unido

Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas Valoración 4 estrellas, Más información sobre las valoraciones de los vendedores

PF. Condición: New. Nº de ref. del artículo: 6666-IUK-9781441923073

Contactar al vendedor

Comprar nuevo

EUR 93,74
Convertir moneda
Gastos de envío: EUR 17,79
De Reino Unido a Estados Unidos de America
Destinos, gastos y plazos de envío

Cantidad disponible: 10 disponibles

Añadir al carrito

Imagen del vendedor

Pietsch, Ullrich; Holy, Vaclav; Baumbach, Tilo
Publicado por Springer, 2011
ISBN 10: 1441923071 ISBN 13: 9781441923073
Antiguo o usado Tapa blanda

Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America

Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas Valoración 5 estrellas, Más información sobre las valoraciones de los vendedores

Condición: As New. Unread book in perfect condition. Nº de ref. del artículo: 18953184

Contactar al vendedor

Comprar usado

EUR 110,56
Convertir moneda
Gastos de envío: EUR 2,25
A Estados Unidos de America
Destinos, gastos y plazos de envío

Cantidad disponible: 15 disponibles

Añadir al carrito

Imagen del vendedor

Ullrich Pietsch
Publicado por Springer New York Dez 2011, 2011
ISBN 10: 1441923071 ISBN 13: 9781441923073
Nuevo Taschenbuch
Impresión bajo demanda

Librería: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, Alemania

Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas Valoración 5 estrellas, Más información sobre las valoraciones de los vendedores

Taschenbuch. Condición: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other materials. For example, optoelectronics requires a subsequent epitaxy of thin layers of different semiconductor materials. Here, the individuallayer thicknesses are scaled down to a few atomic layers in order to exploit quantum effects. For reasons of electronic and optical confinement, these thin layers are embedded within much thicker cladding layers or stacks of multilayers of slightly different chemical composition. It is evident that the interface quality of those quantum weHs is quite important for the function of devices. Thin metallic layers often show magnetic properties which do not ap pear for thick layers or in bulk material. The investigation of the mutual interaction of magnetic and non-magnetic layers leads to the discovery of colossal magnetoresistance, for example. This property is strongly related to the thickness and interface roughness of covered layers. 428 pp. Englisch. Nº de ref. del artículo: 9781441923073

Contactar al vendedor

Comprar nuevo

EUR 96,29
Convertir moneda
Gastos de envío: EUR 23,00
De Alemania a Estados Unidos de America
Destinos, gastos y plazos de envío

Cantidad disponible: 2 disponibles

Añadir al carrito

Imagen de archivo

Ulrich Pietsch
Publicado por Springer-Verlag New York Inc., 2011
ISBN 10: 1441923071 ISBN 13: 9781441923073
Nuevo Paperback / softback
Impresión bajo demanda

Librería: THE SAINT BOOKSTORE, Southport, Reino Unido

Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas Valoración 5 estrellas, Más información sobre las valoraciones de los vendedores

Paperback / softback. Condición: New. This item is printed on demand. New copy - Usually dispatched within 5-9 working days 620. Nº de ref. del artículo: C9781441923073

Contactar al vendedor

Comprar nuevo

EUR 111,69
Convertir moneda
Gastos de envío: EUR 14,88
De Reino Unido a Estados Unidos de America
Destinos, gastos y plazos de envío

Cantidad disponible: Más de 20 disponibles

Añadir al carrito

Imagen del vendedor

Ullrich Pietsch|Vaclav Holy|Tilo Baumbach
Publicado por Springer New York, 2011
ISBN 10: 1441923071 ISBN 13: 9781441923073
Nuevo Tapa blanda
Impresión bajo demanda

Librería: moluna, Greven, Alemania

Calificación del vendedor: 4 de 5 estrellas Valoración 4 estrellas, Más información sobre las valoraciones de los vendedores

Condición: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other. Nº de ref. del artículo: 4172832

Contactar al vendedor

Comprar nuevo

EUR 81,44
Convertir moneda
Gastos de envío: EUR 48,99
De Alemania a Estados Unidos de America
Destinos, gastos y plazos de envío

Cantidad disponible: Más de 20 disponibles

Añadir al carrito

Existen otras 9 copia(s) de este libro

Ver todos los resultados de su búsqueda