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Sinopsis
This edited volume, first published in 2007, comprehensively covers the focused ion beam and two beam technology. Presenting the basic principles, capabilities, challenges, advantages, applications and when best to implement the technology, this is a valuable resource for researchers in materials science, electrical engineering and nanotechnology.
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Reseña del editor
The focused ion beam (FIB) system is an important tool for understanding and manipulating the structure of materials at the nanoscale. Combining this system with an electron beam creates a DualBeam - a single system that can function as an imaging, analytical and sample modification tool. Presenting the principles, capabilities, challenges and applications of the FIB technique, this edited volume, first published in 2007, comprehensively covers the ion beam technology including the DualBeam. The basic principles of ion beam and two-beam systems, their interaction with materials, etching and deposition are all covered, as well as in situ materials characterization, sample preparation, three-dimensional reconstruction and applications in biomaterials and nanotechnology. With nanostructured materials becoming increasingly important in micromechanical, electronic and magnetic devices, this self-contained review of the range of ion beam methods, their advantages, and when best to implement them is a valuable resource for researchers in materials science, electrical engineering and nanotechnology.
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- EditorialCambridge University Press
- Año de publicación2011
- ISBN 10 0521158591
- ISBN 13 9780521158596
- EncuadernaciónTapa blanda
- IdiomaInglés
- Número de páginas408
- EditorYao Nan
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Focused Ion Beam Systems: Basics and Applications
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