9781461486596 - helium ion microscopy: principles and applications (springerbriefs in materials) de joy, david c. (14 resultados)
Idioma: Inglés
Editorial: Springer, 2013
- Tapa blanda
Librería: Scissortail, Oklahoma City, OK, Estados Unidos de AmericaScissortail
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EUR 41,44
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Idioma: Inglés
Editorial: Springer, 2013
- Tapa blanda
Librería: California Books, Miami, FL, Estados Unidos de AmericaCalifornia Books
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Idioma: Inglés
Editorial: Springer, 2013
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Idioma: Inglés
Editorial: Springer, 2013
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Idioma: Inglés
Editorial: Springer Verlag, 2013
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Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino UnidoRevaluation Books
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Paperback. Condición: Brand New. 2013 edition. 70 pages. 9.00x6.00x0.25 inches. In Stock.
Idioma: Inglés
Editorial: Springer New York, 2013
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Librería: moluna, Greven, Alemaniamoluna
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Condición: New.
Idioma: Inglés
Editorial: Springer, Springer, 2013
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Librería: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, AlemaniaAHA-BUCH GmbH
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Taschenbuch. Condición: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Helium Ion Microscopy: Principles and Applications describes the theory and discusses the practical details of why scanning microscopes using beams of light ions - such as the Helium Ion Microscope (HIM) - are destined to become the imaging tools o…f choice for the 21st century. Topics covered include the principles, operation, and performance of the Gaseous Field Ion Source (GFIS), and a comparison of the optics of ion and electron beam microscopes including their operating conditions, resolution, and signal-to-noise performance. The physical principles of Ion-Induced Secondary Electron (iSE) generation by ions are discussed, and an extensive database of iSE yields for many elements and compounds as a function of incident ion species and its energy is included. Beam damage and charging are frequently outcomes of ion beam irradiation, and techniques to minimize such problems are presented. In addition to imaging, ions beams can be used for the controlled deposition, or removal, of selected materials with nanometer precision. The techniques and conditions required for nanofabrication are discussed and demonstrated. Finally, the problem of performing chemical microanalysis with ion beams is considered. Low energy ions cannot generate X-ray emissions, so alternative techniques such as Rutherford Backscatter Imaging (RBI) or Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) are examined.
Idioma: Inglés
Editorial: Springer, 2013
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Librería: preigu, Osnabrück, Alemaniapreigu
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Taschenbuch. Condición: Neu. Helium Ion Microscopy | Principles and Applications | David C. Joy | Taschenbuch | SpringerBriefs in Materials | viii | Englisch | 2013 | Springer | EAN 9781461486596 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]c…om | Anbieter: preigu.
Idioma: Inglés
Editorial: Springer, 2013
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Librería: Mispah books, Redhill, SURRE, Reino UnidoMispah books
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Idioma: Inglés
Editorial: Springer, 2013
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Idioma: Inglés
Editorial: Springer New York Sep 2013, 2013
- Tapa blanda
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Taschenbuch. Condición: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Helium Ion Microscopy: Principles and Applications describes the theory and discusses the practical details of why scanning microscopes using beams of light ions - such as the Helium Ion Microscope (HIM) - are destined to become the… imaging tools of choice for the 21st century. Topics covered include the principles, operation, and performance of the Gaseous Field Ion Source (GFIS), and a comparison of the optics of ion and electron beam microscopes including their operating conditions, resolution, and signal-to-noise performance. The physical principles of Ion-Induced Secondary Electron (iSE) generation by ions are discussed, and an extensive database of iSE yields for many elements and compounds as a function of incident ion species and its energy is included. Beam damage and charging are frequently outcomes of ion beam irradiation, and techniques to minimize such problems are presented. In addition to imaging, ions beams can be used for the controlled deposition, or removal, of selected materials with nanometer precision. The techniques and conditions required for nanofabrication are discussed and demonstrated. Finally, the problem of performing chemical microanalysis with ion beams is considered. Low energy ions cannot generate X-ray emissions, so alternative techniques such as Rutherford Backscatter Imaging (RBI) or Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) are examined. 72 pp. Englisch.
Idioma: Inglés
Editorial: Springer, 2013
- Tapa blanda
- Impresión bajo demanda
Librería: Majestic Books, Hounslow, Reino UnidoMajestic Books
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Condición: New. Print on Demand pp. 74 29 Illus. (16 Col.).
Idioma: Inglés
Editorial: Springer, 2013
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Condición: New. PRINT ON DEMAND pp. 74.
Idioma: Inglés
Editorial: Springer, Springer Sep 2013, 2013
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Taschenbuch. Condición: Neu. This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -Helium Ion Microscopy: Principles and Applications describes the theory and discusses the practical details of why scanning microscopes using beams of light ions ¿ such as the Helium Ion Microscope (HIM) ¿ are destined to become the ima…ging tools of choice for the 21st century. Topics covered include the principles, operation, and performance of the Gaseous Field Ion Source (GFIS), and a comparison of the optics of ion and electron beam microscopes including their operating conditions, resolution, and signal-to-noise performance. The physical principles of Ion-Induced Secondary Electron (iSE) generation by ions are discussed, and an extensive database of iSE yields for many elements and compounds as a function of incident ion species and its energy is included. Beam damage and charging are frequently outcomes of ion beam irradiation, and techniques to minimize such problems are presented. In addition to imaging, ions beams can be used for the controlled deposition, or removal, of selected materials with nanometer precision. The techniques and conditions required for nanofabrication are discussed and demonstrated. Finally, the problem of performing chemical microanalysis with ion beams is considered. Low energy ions cannot generate X-ray emissions, so alternative techniques such as Rutherford Backscatter Imaging (RBI) or Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) are examined.Springer-Verlag KG, Sachsenplatz 4-6, 1201 Wien 72 pp. Englisch.
