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![Imagen del vendedor de Size Dependence of Photolithographic Defect Density Distribution; and, A Method for LSI Modeling and Process Monitoring (Two Monographs) [plus related documents] a la venta por Crossroad Books](https://pictures.abebooks.com/inventory/md/md31273180545.jpg)
Size Dependence of Photolithographic Defect Density Distribution; and, A Method for LSI Modeling and Process Monitoring (Two Monographs) [plus related documents]
Publicado por Charles H. Stapper, 1975
Librería: Crossroad Books, Eau Claire, WI, Estados Unidos de America
Calificación del vendedor: 5 de 5 estrellas
EUR 31,42
Envío por EUR 4,79
Se envía dentro de Estados Unidos de AmericaCantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoStapled sheets. Condición: Very Good-. Estado de la sobrecubierta: No Dust Jacket. Sheets stapled at top corner. Two monograph copies. These appears to be preliminary version of these papers on IC yields. "Size Dependence." is authored by Stapper, Thomas, and Dennard, and is 16 single-sided sheets. "Method." is authored by Stapper, and is 26 single-sided sheets. Also included are two letters dated June 24 and August 29, 1975; from Stapper to another industry expert concerning feedback about the papers. Rust stains from paper-clips at the top edges. Else a bit age-toned, but clean. ; 27C; 11" x 8-1/2".
