Librería: AwesomeBooks, Wallingford, Reino Unido
EUR 4,95
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritopaperback. Condición: Very Good. Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces XII: Volume 219 (Solid State Phenomena, Volume 219) This book is in very good condition and will be shipped within 24 hours of ordering. The cover may have some limited signs of wear but the pages are clean, intact and the spine remains undamaged. This book has clearly been well maintained and looked after thus far. Money back guarantee if you are not satisfied. See all our books here, order more than 1 book and get discounted shipping. .
Idioma: Inglés
Publicado por Trans Tech Publications Ltd -
ISBN 10: 303835242X ISBN 13: 9783038352426
Librería: Bahamut Media, Reading, Reino Unido
EUR 5,30
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritopaperback. Condición: Very Good. Shipped within 24 hours from our UK warehouse. Clean, undamaged book with no damage to pages and minimal wear to the cover. Spine still tight, in very good condition. Remember if you are not happy, you are covered by our 100% money back guarantee.
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Librería: California Books, Miami, FL, Estados Unidos de America
EUR 42,32
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New.
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
EUR 38,68
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New. In.
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press 2014-06-05, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Librería: Chiron Media, Wallingford, Reino Unido
EUR 34,77
Cantidad disponible: 10 disponibles
Añadir al carritoPaperback. Condición: New.
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Librería: Kennys Bookshop and Art Galleries Ltd., Galway, GY, Irlanda
EUR 43,23
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New.
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press CUP, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Librería: Books Puddle, New York, NY, Estados Unidos de America
EUR 54,79
Cantidad disponible: 4 disponibles
Añadir al carritoCondición: New. pp. 176.
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Librería: Kennys Bookstore, Olney, MD, Estados Unidos de America
EUR 54,07
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New.
Idioma: Inglés
Publicado por Uetikon am See : Scitec, 2008
ISBN 10: 3908451469 ISBN 13: 9783908451464
Librería: Antiquariat Thomas Haker GmbH & Co. KG, Berlin, Alemania
Miembro de asociación: GIAQ
EUR 35,10
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoSoftcover/Paperback. Condición: Sehr gut. 400 p. Very good. Shrink wrapped. / Sehr guter Zustand. In Folie verschweißt. Sprache: Englisch Gewicht in Gramm: 760.
Librería: Antiquariat Thomas Haker GmbH & Co. KG, Berlin, Alemania
Miembro de asociación: GIAQ
Original o primera edición
EUR 44,10
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoPaperback. Condición: Wie neu. 1st ed. 412 S.; Ill. Like new. Shrink wrapped. Sprache: Englisch Gewicht in Gramm: 825.
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Librería: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Alemania
EUR 55,19
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Chemical-mechanical polishing (CMP) is a critical technology in the planarization of multilevel metallization systems and shallow-trench isolation in semiconductor manufacturing. Other emerging applications for this technology include flat-panel displays, magnetic data storage and microelectromechanical systems. The rapid emergence of copper as the conducting material for integrated circuits has further pushed CMP technology to the forefront of semiconductor manufacturing. However, a basic understanding of the CMP process, which is necessary to enable further advances, is inadequate. This book, first published in 2001, provides an insight into the fundamental processes in CMP. Presentations from academia, government institutions and industry are featured. Topics include: CMP mechanisms; dielectric and metal CMP; process integration and manufacturability; and CMP consumables.
Idioma: Inglés
Publicado por Scitec Publications, Ltd., 2003
ISBN 10: 3908450780 ISBN 13: 9783908450788
Librería: Mispah books, Redhill, SURRE, Reino Unido
EUR 257,96
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoPaperback. Condición: Like New. LIKE NEW. SHIPS FROM MULTIPLE LOCATIONS. book.
Librería: Mispah books, Redhill, SURRE, Reino Unido
EUR 352,43
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoPaperback. Condición: Like New. LIKE NEW. SHIPS FROM MULTIPLE LOCATIONS. book.
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
EUR 36,19
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoPaperback. Condición: Brand New. 176 pages. 9.00x6.00x0.40 inches. In Stock. This item is printed on demand.
Librería: Antiquariaat Wim de Goeij, Kalmthout, ANTW, Belgica
Miembro de asociación: ILAB
EUR 49,00
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carrito2. Bruxelles, Editions Labor, Editions Isy Brachot, 1992, in-4°, 143 pp, coloured ills., publisher's cased binding with an illustrated dust jacket. Text in French but with translations in English, German and Dutch.
Librería: Antiquariaat Wim de Goeij, Kalmthout, ANTW, Belgica
Miembro de asociación: ILAB
EUR 56,00
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carrito3. Bruxelles, Editions Labor, Editions Isy Brachot, 1992, in-4°, 143 pp, coloured ills., publisher's cased binding with an illustrated dust jacket. Text in French but with translations in English, German and Dutch.
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Librería: THE SAINT BOOKSTORE, Southport, Reino Unido
EUR 41,82
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoPaperback / softback. Condición: New. This item is printed on demand. New copy - Usually dispatched within 5-9 working days.
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Librería: Majestic Books, Hounslow, Reino Unido
EUR 53,38
Cantidad disponible: 4 disponibles
Añadir al carritoCondición: New. Print on Demand pp. 176.
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Librería: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Alemania
EUR 53,80
Cantidad disponible: 4 disponibles
Añadir al carritoCondición: New. PRINT ON DEMAND pp. 176.
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, Cambridge, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Librería: CitiRetail, Stevenage, Reino Unido
EUR 45,40
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoPaperback. Condición: new. Paperback. Chemical-mechanical polishing (CMP) is a critical technology in the planarization of multilevel metallization systems and shallow-trench isolation in semiconductor manufacturing. Other emerging applications for this technology include flat-panel displays, magnetic data storage and microelectromechanical systems. The rapid emergence of copper as the conducting material for integrated circuits has further pushed CMP technology to the forefront of semiconductor manufacturing. However, a basic understanding of the CMP process, which is necessary to enable further advances, is inadequate. This book, first published in 2001, provides an insight into the fundamental processes in CMP. Presentations from academia, government institutions and industry are featured. Topics include: CMP mechanisms; dielectric and metal CMP; process integration and manufacturability; and CMP consumables. Chemical-mechanical polishing (CMP) is a critical technology in the planarization of multilevel metallization systems and shallow-trench isolation in semiconductor manufacturing. This book, first published in 2001, provides an insight into the fundamental processes in CMP. Presentations from academia, government institutions and industry are featured. This item is printed on demand. Shipping may be from our UK warehouse or from our Australian or US warehouses, depending on stock availability.
Idioma: Inglés
Publicado por Cambridge University Press, 2013
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Librería: moluna, Greven, Alemania
EUR 42,05
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Chemical-mechanical polishing (CMP) is a critical technology in the planarization of multilevel metallization systems and shallow-trench isolation in semiconductor manufacturing. This book, first published in 2001, provides an insight into the fundamental p.