Ultraclean Surface Processing of Silicon Wafers : Secrets of VLSI Manufacturing

Idioma: inglés

Editorial: Springer, Berlin, Springer Berlin Heidelberg, Springer, 1998

3540616721 / 9783540616726

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Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - A totally new concept for clean surface processing of Si wafers is introduced in this book. Some fifty distinguished researchers and engineers from the leading Japanese semiconductor companies, such as NEC, Hitachi, Toshiba, Sony and Panasonic as well as from several universities reveal to us for the first time the secrets of these highly productive institutions. They describe the techniques and equipment necessary for the preparation of clean high-quality semiconductor surfaces as a first step in high-yield/high-quality device production. This book thus opens the door to the manufacturing of reliable nanoscale devices and will be extremely useful for every engineer, physicist and technician involved inthe production of silicon semiconductor devices.

N° de ref. del artículo 9783540616726

Título
Ultraclean Surface Processing of Silicon Wafers : Secrets of VLSI Manufacturing
Autor
Takeshi Hattori
Editorial
Springer, Berlin, Springer Berlin Heidelberg, Springer
Año de publicación
1998
Estado
Neu
Encuadernación
Buch
Idioma
inglés
ISBN 10
3540616721
ISBN 13
9783540616726
Peso del artículo
890 gramos
Dimensiones
238x153x44 mm

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