Optical Diagnostics for Thin Film Processing

Idioma: inglés

Editorial: Elsevier Science Okt 1995, 1995

0123420709 / 9780123420701

Librería: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, AlemaniaBuchWeltWeit Ludwig Meier e.K.

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This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -This volume describes the increasing role of in situ optical diagnostics in thin film processing for applications ranging from fundamental science studies to process development to control during manufacturing. The key advantage of optical diagnostics in these applications is that they are usually noninvasive and nonintrusive. Optical probes of the surface, film, wafer, and gas above the wafer are described for many processes, including plasma etching, MBE, MOCVD, and rapid thermal processing. For each optical technique, the underlying principles are presented, modes of experimental implementation are described, and applications of the diagnostic in thin film processing are analyzed, with examples drawn from microelectronics and optoelectronics. Special attention is paid to real-time probing of the surface, to the noninvasive measurement of temperature, and to the use of optical probes for process control. Optical Diagnostics for Thin Film Processing is unique. No other volume explores the real-time application of optical techniques in all modes of thin film processing. The text can be used by students and those new to the topic as an introduction and review of the subject. It also serves as a comprehensive resource for engineers, technicians, researchers, and scientists already working in the field. 783 pp. Englisch.…

N° de ref. del artículo 9780123420701

Título
Optical Diagnostics for Thin Film Processing
Autor
Irving P Herman
Editorial
Elsevier Science Okt 1995
Año de publicación
1995
Estado
Neu
Encuadernación
Buch
Idioma
inglés
ISBN 10
0123420709
ISBN 13
9780123420701
Peso del artículo
1211 gramos
Dimensiones
236x159x43 mm

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