Materials and Processes for Next Generation Lithography
Idioma: inglés
Editorial: Elsevier Inc Dez 2016, 2016
Serie: Libro 11 de 21 - ISSN
- Tapa dura
- Nuevo
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Neuware - As the requirements of the semiconductor industry have become more demanding in terms of resolution and speed it has been necessary to push photoresist materials far beyond the capabilities previously envisioned. Currently there is significant worldwide research effort in to so called Next Generation Lithography techniques such as EUV lithography and multibeam electron beam lithography. These developments in both the industrial and the academic lithography arenas have led to the proliferation of numerous novel approaches to resist chemistry and ingenious extensions of traditional photopolymers. Currently most texts in this area focus on either lithography with perhaps one or two chapters on resists, or on traditional resist materials with relatively little consideration of new approaches. This book therefore aims to bring together the worlds foremost resist development scientists from the various community to produce in one place a definitive description of the many approaches to lithography fabrication.…
N° de ref. del artículo 9780081003541
- Título
- Materials and Processes for Next Generation Lithography
- Autor
- Richard Lawson
- Editorial
- Elsevier Inc Dez 2016
- Año de publicación
- 2016
- Estado
- Neu
- Encuadernación
- Buch
- Idioma
- inglés
- ISBN 10
- 0081003544
- ISBN 13
- 9780081003541
- Peso del artículo
- 1298 gramos
- Dimensiones
- 235x191x35 mm
- Serie
- Libro 11 de 21: ISSN
As the requirements of the semiconductor industry have become more demanding in terms of resolution and speed it has been necessary to push photoresist materials far beyond the capabilities previously envisioned. Currently there is significant worldwide research effort in to so called Next Generation Lithography techniques such as EUV lithography and multibeam electron beam lithography.
These developments in both the industrial and the academic lithography arenas have led to the proliferation of numerous novel approaches to resist chemistry and ingenious extensions of traditional photopolymers. Currently most texts in this area focus on either lithography with perhaps one or two chapters on resists, or on traditional resist materials with relatively little consideration of new approaches.
This book therefore aims to bring together the worlds foremost resist development scientists from the various community to produce in one place a definitive description of the many approaches to lithography fabrication.
- Assembles up-to-date information from the world's premier resist chemists and technique development lithographers on the properties and capabilities of the wide range of resist materials currently under investigation
- Includes information on processing and metrology techniques
- Brings together multiple approaches to litho pattern recording from academia and industry in one place
“Sinopsis” puede pertenecer a otra edición de este título.
Acerca del autor
Dr Lawson received his B.S. in Chemical Engineering at Tennessee Technological University in 2005. He received a Ph.D. in Chemical & Biomolecular Engineering in 2011 at the Georgia Institute of Technology where he also completed a Postdoctoral Fellowship. Since 2015, he has been at Milliken & Company where he is a Research Engineer working in the area of chemical technologies. He is an author of over 22 publications, 41 conference proceedings, and a U.S. Patent in the area of patterning materials including photoresist and block copolymer design, synthesis, and characterization along with simulation of resist processing and BCP self-assembly.
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