Magnetron Sputtered Copper Nitride Films for Optical Storage Devices

Idioma: inglés

Editorial: LAP LAMBERT Academic Publishing Jun 2016, 2016

3659901415 / 9783659901416

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This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -Thin films of copper nitride received much attention because of their wide range of applications such as write-once optical recording, insulating barrier in magnetic tunnel junctions, generating microscopic copper lines by maskless laser writing or copper dots by maskless electron beam writing. The physical properties of the deposited films depend mainly on the deposition technique employed and the process parameters maintained during the growth of the films. This book restrains the optimized preparation condition of copper nitride films using dc reactive magnetron sputtering technique by precisely controlling the process parameters, and investigated the physical properties of the films. The promising approach to prepare the device quality copper nitride films for optical recording devices was discussed clearly in this book.VDM Verlag, Dudweiler Landstraße 99, 66123 Saarbrücken 132 pp. Englisch.

N° de ref. del artículo 9783659901416

Título
Magnetron Sputtered Copper Nitride Films for Optical Storage Devices
Autor
Venkata Subba Reddy Katherapalli
Editorial
LAP LAMBERT Academic Publishing Jun 2016
Año de publicación
2016
Estado
Neu
Encuadernación
Taschenbuch
Idioma
inglés
ISBN 10
3659901415
ISBN 13
9783659901416
Peso del artículo
215 gramos
Dimensiones
220x150x9 mm

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Emtmannsberg, BAYE, Alemania

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