High-k materials in Dynamic Random Access Memories (DRAM): Atomic scale engineering of HfO2-based dielectrics for future DRAM applications

Idioma: inglés

Editorial: Südwestdeutscher Verlag für Hochschulschriften, 2011

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Título
High-k materials in Dynamic Random Access Memories (DRAM): Atomic scale engineering of HfO2-based dielectrics for future DRAM applications
Autor
Dudek, Piotr
Editorial
Südwestdeutscher Verlag für Hochschulschriften
Año de publicación
2011
Estado
New
Encuadernación
Encuadernación de tapa blanda
Idioma
inglés
ISBN 10
3838130189
ISBN 13
9783838130187

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