High-k materials in Dynamic Random Access Memories (DRAM) : Atomic scale engineering of HfO2-based dielectrics for future DRAM applications

Idioma: inglés

Editorial: Südwestdeutscher Verlag Für Hochschulschriften, 2011

3838130189 / 9783838130187

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nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - I would like to give you an outstanding opportunity to experience more about modern materials for Dynamic Random Access Memories. Therefore I give this book into your hands. You will find here a theory chapter focusing on DRAM physics as well as a deep description of deposition and characterization methods used in this work. Finally, you will discover how to engineer materials on an atomic scale and how to investigate those thin films.

N° de ref. del artículo 9783838130187

Título
High-k materials in Dynamic Random Access Memories (DRAM) : Atomic scale engineering of HfO2-based dielectrics for future DRAM applications
Autor
Piotr Dudek
Editorial
Südwestdeutscher Verlag Für Hochschulschriften
Año de publicación
2011
Estado
Neu
Encuadernación
Taschenbuch
Idioma
inglés
ISBN 10
3838130189
ISBN 13
9783838130187
Peso del artículo
185 gramos
Dimensiones
220x150x8 mm

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