DMD Digital Lithography Optimization Technology

Idioma: inglés

Editorial: Eliva Press Apr 2024, 2024

163648770X / 9781636487700

  • Tapa blanda
  • Nuevo
Ver todos los detalles

Librería: buchversandmimpf2000, Emtmannsberg, BAYE, Alemaniabuchversandmimpf2000

Vendedor de 5 estrellas

Vendedor de IberLibro desde 23 de enero de 2017

Tapa blanda

Condición: Nuevo

EUR 39,00

Envío por EUR 60,00 
Se envía de Alemania a Estados Unidos de America

Cantidad disponible: 1 disponible

Añadir al carrito
Devoluciones gratuitas de 30 días

Descripción del artículo del vendedor

This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -In the sophisticated world of microelectronics manufacturing, lithography is the key to miniaturization and high-performance integrated circuits. With the continuous progress of technology, the requirements of lithography resolution and production efficiency are increasing day by day, and the traditional lithography technology is facing unprecedented challenges. Digital Micromirror device (DMD) lithography technology, with its high contrast and fast refresh rate, has become an important tool in the field of micro and nano manufacturing. However, how to improve the lithographic accuracy and pattern quality while maintaining high efficiency is still an urgent problem to be solved in the industry.This book, ''Optimization of DMD Digital Lithography'' by Dr. Shengzhou Huang and his team, brings together their latest research results in the field of DMD lithography optimization. (1) A simulated annealing enhanced genetic algorithm (SA-GA) is proposed to optimize mask design and significantly improve the accuracy of lithography simulation. (2) How to optimize DMD lithography process by hybrid genetic algorithm and improved exposure model is further discussed. The book details how to enhance the diversity of the algorithm by introducing Gaussian noise, and achieve precise adjustment of the parameters of the exposure model through genetic operations such as two-point crossing and bit flip variation. (3) Aiming at the problem of edge jagging caused by non-integer pixel errors in DMD lithography, an optimization method of pixel overlap is proposed.This book not only introduces the theoretical basis and implementation methods of these optimization techniques in detail, but also demonstrates the remarkable effect of these techniques in improving the accuracy and efficiency of lithography through a large number of simulation experiments and practical cases.Libri GmbH, Europaallee 1, 36244 Bad Hersfeld 48 pp. Englisch.…

N° de ref. del artículo 9781636487700

Título
DMD Digital Lithography Optimization Technology
Autor
Shengzhou Huang
Editorial
Eliva Press Apr 2024
Año de publicación
2024
Estado
Neu
Encuadernación
Taschenbuch
Idioma
inglés
ISBN 10
163648770X
ISBN 13
9781636487700
Peso del artículo
86 gramos
Dimensiones
229x152x3 mm

buchversandmimpf2000

Emtmannsberg, BAYE, Alemania

Vendedor de 5 estrellas

Vendedor de IberLibro desde 23 de enero de 2017

Tarifas de envío de Alemania a Estados Unidos de America

ArtículoDe 60 a 60 días hábilesDe 60 a 60 días hábiles
Primer artículoEUR 60,00EUR 75,00
Los plazos de entrega los establecen los vendedores y varían según el transportista y la ubicación. Los pedidos que pasan por la aduana pueden sufrir retrasos y los compradores son responsables de los aranceles o tarifas asociadas. Los vendedores pueden ponerse en contacto con usted en relación con cargos adicionales para cubrir cualquier aumento en los costes de envío de los artículos.

Métodos de pago

  • Visa
  • Mastercard
  • American Express
  • Carte Bleue
  • Apple Pay
  • Google Pay
  • Cheque
  • PayPal

Descripción de la tienda

Impressum Thorsten Retsch Buchversand Mimpf2000 Oberölschnitz 16 95517 Emtmannsberg Deutschland Telefon: 09209-2023188 Email: mimpf2000@online.de USt-ID-Nr.: DE 235096871 Wir führen gebrauchte Bücher aus allen Sparten der Literatur

Especialidad

Modernes Antiquariat - Bücher von 1960 bis heute

Información empresarial del vendedor

buchversandmimpf2000

Alemania