Sinopsis
This book presents state-of-the-art research in microelectronic processing for very large scale integration. Emphasizing applications and techniques, the book provides considerable insight into Japan's technological effort in this important area of science. Focused on research involving plasma deposition and dry etching, considerable attention is devoted to MOS gate fabrication, the studies of the influence of process parameters on electrical properties, dry processing technologies, and the theory of plasma chemical reactions.
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Reseña del editor
This book presents state-of-the-art research in microelectronic processing for very large scale integration. Emphasizing applications and techniques, the book provides considerable insight into Japan's technological effort in this important area of science. Focused on research involving plasma deposition and dry etching, considerable attention is devoted to MOS gate fabrication, the studies of the influence of process parameters on electrical properties, dry processing technologies, and the theory of plasma chemical reactions.
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Applications of Plasma Processes to VLSI Technology
Publicado por
Wiley-Interscience, 1985
ISBN 10: 0471869600
ISBN 13: 9780471869603
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Applications of Plasma Processes to Vlsi Technology
Publicado por
John Wiley & Sons, 1985
ISBN 10: 0471869600
ISBN 13: 9780471869603
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Applications of Plasma Processes to VLSI Technology
Publicado por
Wiley-Interscience, 1985
ISBN 10: 0471869600
ISBN 13: 9780471869603
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Applications of Plasma Processes to VLSI Technology
Publicado por
John Wiley & Sons, New York, 1985
ISBN 10: 0471869600
ISBN 13: 9780471869603
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