Advances in Research and Development: Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications: Volume 23 (Thin Films, Volume 23) - Tapa dura

 
9780125330237: Advances in Research and Development: Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications: Volume 23 (Thin Films, Volume 23)

Sinopsis

Significant progress has occurred during the last few years in device technologies and these are surveyed in this new volume. Included are Si/(Si-Ge) heterojunctions for high-speed integrated circuits, Schottky-barrier arrays in Si and Si-Ge alloys for infrared imaging, III-V quantum-well detector structures operated in the heterodyne mode for high-data-rate communications, and III-V heterostructures and quantum-wells for infrared emissions.

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Acerca del autor

Charlotte y Peter Fiell son dos autoridades en historia, teoría y crítica del diseño y han escrito más de sesenta libros sobre la materia, muchos de los cuales se han convertido en éxitos de ventas. También han impartido conferencias y cursos como profesores invitados, han comisariado exposiciones y asesorado a fabricantes, museos, salas de subastas y grandes coleccionistas privados de todo el mundo. Los Fiell han escrito numerosos libros para TASCHEN, entre los que se incluyen 1000 Chairs, Diseño del siglo XX, El diseño industrial de la A a la Z, Scandinavian Design y Diseño del siglo XXI.

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