Estudo da deposi��o qu�mica de N�quel em Microeletr�nica: Deposi��o qu�mica autocatal�tica em dispositivos e circuitos integrados - Tapa blanda

Battistini Marques, Angelo Eduardo

9783330735996: Estudo da deposi��o qu�mica de N�quel em Microeletr�nica: Deposi��o qu�mica autocatal�tica em dispositivos e circuitos integrados

Tapa blanda

ISBN 10: 3330735996 ISBN 13: 9783330735996

Editorial: Novas Edi��es Acad�micas, 2016

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Rese�a del editor

Neste trabalho mostramos o estudo e a caracteriza��o de diversos processos de deposi��o qu�mica autocatal�tica de n�quel para aplica��es em microeletr�nica e nanotecnologia. S�o mostrados processos de deposi��o qu�mica por diversas t�cnicas, bem como os resultados de an�lises de composi��o qu�mica, rugosidade superficial e espessura de filmes de N�quel e ligas N�quel-F�sforo pelas t�cnicas de RBS, AFM, TRXFA. Tamb�m � mostrada a caracteriza��o el�trica de capacitores MOS constru�dos com essa t�cnica de deposi��o.

Biograf�a del autor

Possui gradua��o em Engenharia El�trica pela Escola de Engenharia Mau�, mestrado e doutorado em MIcroeletr�nica pela Universidade de S�o Paulo. Atualmente � Pesquisador e Professor Titular da Universidade S�o Judas Tadeu, sua principal linha de pesquisa atualmente � a Aprendizagem Ativa para gradua��o em Engenharia.

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EditorialNovas Edi��es Acad�micas
A�o de publicaci�n2016
ISBN 10 3330735996
ISBN 13 9783330735996
Encuadernaci�nTapa blanda
N�mero de p�ginas128

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Estudo da deposi��o qu�mica de N�quel em Microeletr�nica

Angelo Eduardo Battistini Marques

Publicado por Novas Edi��es Acad�micas Jun 2016, 2016

ISBN 10: 3330735996 ISBN 13: 9783330735996

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Angelo Eduardo Battistini Marques

Publicado por Novas Edi��es Acad�micas, 2016

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Taschenbuch. Condici�n: Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - Neste trabalho mostramos o estudo e a caracteriza��o de diversos processos de deposi��o qu�mica autocatal�tica de n�quel para aplica��es em microeletr�nica e nanotecnologia. S�o mostrados processos de deposi��o qu�mica por diversas t�cnicas, bem como os resultados de an�lises de composi��o qu�mica, rugosidade superficial e espessura de filmes de N�quel e ligas N�quel-F�sforo pelas t�cnicas de RBS, AFM, TRXFA. Tamb�m � mostrada a caracteriza��o el�trica de capacitores MOS constru�dos com essa t�cnica de deposi��o. N� de ref. del art�culo: 9783330735996

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