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Reseña del editor:
This overview describes how to begin research in this newly developing technology, allowing the reader to understand the basics of the process. Internationally recognized experts in their fields cover such fundamentals as history, theory, film characteristics, surface modification, laser technology, materials and applications. The text also includes reviews regarding the entire area of semiconductor buffer layers, thin-film ferroelectrics and ferrites, along with the work involving films deposited by PLD.
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- EditorialJohn Wiley & Sons Inc
- Año de publicación1994
- ISBN 10 0471592188
- ISBN 13 9780471592181
- EncuadernaciónTapa dura
- Número de páginas648
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Pulsed Laser Deposition of Thin Films
Publicado por
John Wiley & Sons Inc
(1994)
ISBN 10: 0471592188
ISBN 13: 9780471592181
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Tapa dura
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Descripción Condición: Gut. 613 S. Gebrauchs- und Lagerspuren. Innen: Seiten eingerissen, Kleiner Riss. Aus der Auflösung einer renommierten Bibliothek. Kann Stempel beinhalten. 1279447/203 Altersfreigabe FSK ab 0 Jahre Gebundene Ausgabe, Maße: 16.2 cm x 3.95 cm x 24.3 cm. Nº de ref. del artículo: 1279447203
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Pulsed Laser Deposition of Thin Films
Publicado por
Wiley-Interscience
(1994)
ISBN 10: 0471592188
ISBN 13: 9780471592181
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Pulsed Laser Deposition of Thin Films
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Wiley-Interscience
(1994)
ISBN 10: 0471592188
ISBN 13: 9780471592181
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