Librería: HPB-Red, Dallas, TX, Estados Unidos de America
EUR 10,43
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritohardcover. Condición: Good. Connecting readers with great books since 1972! Used textbooks may not include companion materials such as access codes, etc. May have some wear or writing/highlighting. We ship orders daily and Customer Service is our top priority!
Librería: HPB-Red, Dallas, TX, Estados Unidos de America
EUR 14,02
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoHardcover. Condición: Good. Connecting readers with great books since 1972! Used textbooks may not include companion materials such as access codes, etc. May have some wear or writing/highlighting. We ship orders daily and Customer Service is our top priority!
Idioma: Inglés
Publicado por Van Nostrand Reinhold, (1983)., New York, NY, U.S.A., 1983
ISBN 10: 0442225385 ISBN 13: 9780442225384
Librería: Pride and Prejudice-Books, Ballston Lake, NY, Estados Unidos de America
EUR 13,17
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoHardcover. Condición: Near Fine. Estado de la sobrecubierta: Near Fine. First Edition. Near Fine in Near Fine Dust Jacket.
Idioma: Inglés
Publicado por Van Nostrand Reinhold Company, 1997
ISBN 10: 0442225385 ISBN 13: 9780442225384
Librería: Brentwood Books, Kinnelon, NJ, Estados Unidos de America
EUR 21,91
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritohardcover. Condición: Used, very good. Book and jacket just about like new. This is a brown book in blue jacket, 1997, Van Nostrand, 559p. Book as new except upper page edges very light soiled due to being dusty for a long time; jacket has slightest edgewear. No marks or writing. **We provide professional service and individual attention to your order, daily shipments, and sturdy packaging. FREE TRACKING ON ALL SHIPMENTS WITHIN USA.
Librería: My Dead Aunt's Books, Hyattsville, MD, Estados Unidos de America
EUR 30,73
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoHardcover. Condición: LIKE NEW. Estado de la sobrecubierta: NONE. excellent clean copy.
Librería: SatelliteBooks, Burlington, VT, Estados Unidos de America
EUR 30,73
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoHardcover. Condición: As New. Hardcover. Near fine / near fine dust jacket. Free of any markings and no writings inside. For any additional information or pictures, please inquire.
Idioma: Inglés
Publicado por Van Nost.Reinhold,U.S., 1983
ISBN 10: 0442225385 ISBN 13: 9780442225384
Librería: Ammareal, Morangis, Francia
EUR 19,34
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoHardcover. Condición: Très bon. Ancien livre de bibliothèque. Livre un peu vrillé. Légères traces d'usure sur la couverture. Salissures sur la tranche. Edition 1983. Ammareal reverse jusqu'à 15% du prix net de cet article à des organisations caritatives. ENGLISH DESCRIPTION Book Condition: Used, Very good. Former library book. Book slightly twisted. Slight signs of wear on the cover. Stains on the edge. Edition 1983. Ammareal gives back up to 15% of this item's net price to charity organizations.
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
EUR 111,53
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New. In.
Librería: California Books, Miami, FL, Estados Unidos de America
EUR 126,45
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New.
Librería: Chiron Media, Wallingford, Reino Unido
EUR 112,65
Cantidad disponible: 10 disponibles
Añadir al carritoPaperback. Condición: New.
Idioma: Inglés
Publicado por Secaucus, New Jersey, U.S.A.: Kluwer Academic Pub, 1988
ISBN 10: 0442276885 ISBN 13: 9780442276881
Librería: Rob the Book Man, Vancouver, WA, Estados Unidos de America
EUR 131,71
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoHardcover. Condición: Fine. Estado de la sobrecubierta: Fine. Hardback in near fine condition with near fine dust jacket. Previous owner stamp on inside of front cover, otherwise clean.
Librería: Books Puddle, New York, NY, Estados Unidos de America
EUR 151,01
Cantidad disponible: 4 disponibles
Añadir al carritoCondición: New. pp. 962.
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
EUR 157,02
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New.
Librería: Lucky's Textbooks, Dallas, TX, Estados Unidos de America
EUR 155,84
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New.
Librería: Mispah books, Redhill, SURRE, Reino Unido
EUR 132,47
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoHardcover. Condición: Like New. LIKE NEW. SHIPS FROM MULTIPLE LOCATIONS. book.
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
EUR 158,84
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New. In.
Librería: Ria Christie Collections, Uxbridge, Reino Unido
EUR 160,62
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New. In.
Librería: California Books, Miami, FL, Estados Unidos de America
EUR 175,62
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New.
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
EUR 160,61
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New.
Librería: Revaluation Books, Exeter, Reino Unido
EUR 161,34
Cantidad disponible: 2 disponibles
Añadir al carritoPaperback. Condición: Brand New. reprint edition. 962 pages. 9.25x6.10x2.10 inches. In Stock.
Librería: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Alemania
EUR 116,27
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Chapter I describes deposition as a basic microelectronics technique. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a technique widely accepted in microelectronics for the deposition of amorphous dielectric films such as silicon nitride and silicon oxide. The main advantage of PECVD stems from the intro duction of plasma energy to the CVD environment, which makes it possible to promote chemical reactions at relatively low temperatures. A natural extension of this is to use this plasma energy to lower the temperature required to obtain a crystalline deposit. This chapter discusses the PECVD technique and its ap plication to the deposition of dielectric, semiconductor, and conductor films of interest to microelectronics. Chapter 2 acquaints the reader with the technology and capabilities of plasma processing. Batch etching reactors and etching processes are approaching ma turity after more than ten years of development. Requirements of anisotropic and selective etching have been met using a variety of reactor configurations and etching gases. The present emphasis is the integration of plasma etching processes into the overall fabrication sequence. Chapter 3 reviews recent advances in high pressure oxidation technology and its applications to integrated circuits. The high pressure oxidation system, oxi dation mechanisms, oxidation-induced stacking faults, impurity segregation, and oxide quality are described. Applications to bipolar and MOS devices are also presented.
Librería: Mispah books, Redhill, SURRE, Reino Unido
EUR 163,22
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoPaperback. Condición: Like New. Like New. book.
EUR 178,14
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoGebunden. Condición: New. A growing concern of mine has been the unrealistic expectations for new computer-related technologies introduced into all kinds of organizations. Unrealistic expectations lead to disappointment, and a schizophrenic approach to the introduction of new techno.
Librería: Mispah books, Redhill, SURRE, Reino Unido
EUR 225,90
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoHardcover. Condición: Like New. Like New. book.
Librería: Mispah books, Redhill, SURRE, Reino Unido
EUR 233,00
Cantidad disponible: 1 disponibles
Añadir al carritoPaperback. Condición: Like New. Like New. book.
Librería: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Reino Unido
EUR 242,45
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: As New. Unread book in perfect condition.
Librería: GreatBookPrices, Columbia, MD, Estados Unidos de America
EUR 267,22
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: As New. Unread book in perfect condition.
Idioma: Inglés
Publicado por Springer Netherlands Jun 2012, 2012
ISBN 10: 9401170584 ISBN 13: 9789401170581
Librería: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, Alemania
EUR 85,55
Cantidad disponible: 2 disponibles
Añadir al carritoTaschenbuch. Condición: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Chapter I describes deposition as a basic microelectronics technique. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a technique widely accepted in microelectronics for the deposition of amorphous dielectric films such as silicon nitride and silicon oxide. The main advantage of PECVD stems from the intro duction of plasma energy to the CVD environment, which makes it possible to promote chemical reactions at relatively low temperatures. A natural extension of this is to use this plasma energy to lower the temperature required to obtain a crystalline deposit. This chapter discusses the PECVD technique and its ap plication to the deposition of dielectric, semiconductor, and conductor films of interest to microelectronics. Chapter 2 acquaints the reader with the technology and capabilities of plasma processing. Batch etching reactors and etching processes are approaching ma turity after more than ten years of development. Requirements of anisotropic and selective etching have been met using a variety of reactor configurations and etching gases. The present emphasis is the integration of plasma etching processes into the overall fabrication sequence. Chapter 3 reviews recent advances in high pressure oxidation technology and its applications to integrated circuits. The high pressure oxidation system, oxi dation mechanisms, oxidation-induced stacking faults, impurity segregation, and oxide quality are described. Applications to bipolar and MOS devices are also presented. 960 pp. Englisch.
Librería: moluna, Greven, Alemania
EUR 92,27
Cantidad disponible: Más de 20 disponibles
Añadir al carritoCondición: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Chapter I describes deposition as a basic microelectronics technique. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a technique widely accepted in microelectronics for the deposition of amorphous dielectric films such as silicon nitride and silicon o.
Librería: Majestic Books, Hounslow, Reino Unido
EUR 152,62
Cantidad disponible: 4 disponibles
Añadir al carritoCondición: New. Print on Demand pp. 962 49:B&W 6.14 x 9.21 in or 234 x 156 mm (Royal 8vo) Perfect Bound on White w/Gloss Lam.